[发明专利]迁移率侦测补偿方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 202111493245.9 申请日: 2021-12-08
公开(公告)号: CN114038422B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 窦维 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G09G3/3208 分类号: G09G3/3208;G09G3/3291;G09G3/3258
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 马广旭
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 迁移率 侦测 补偿 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种迁移率侦测补偿方法,其特征在于,包括:

步骤B1、提供像素;所述像素包括驱动晶体管、开关晶体管、感测晶体管、电容以及发光元件,所述驱动晶体管的栅极、所述开关晶体管的源极以及所述电容的第一端均与第一节点电连接,所述驱动晶体管的源极、所述发光元件的第一极、所述感测晶体管的漏极以及所述电容的第二端均与第二节点电连接,所述驱动晶体管的漏极与第一电源电连接,所述开关晶体管的栅极和所述感测晶体管的栅极均与扫描线电连接,所述开关晶体管的漏极与数据线电连接,所述感测晶体管的源极与采样线电连接,所述发光元件的第二极与第二电源电连接;

步骤B2、初始化所述第一节点和所述第二节点的电压,以使得所述驱动晶体管导通;

步骤B3、间隔预设时间段后,对所述第二节点的电压进行侦测;

步骤B4、根据所述第二节点的电压以及预设电压得到所述驱动晶体管的迁移率补偿系数为其中,n表示第n个像素,Ktrg为预设迁移率系数,Kn表示第n个像素中驱动晶体管的实际迁移率系数,Vtrg为所述预设电压,Vsn为对第n个像素中所述第二节点的电压进行侦测得到的电压,Vref为初始化所述第二节点时的初始源极电压,n为大于0的整数。

2.根据权利要求1所述的迁移率侦测补偿方法,其特征在于,当初始化所述第一节点和所述第二节点的电压时,所述步骤B2具体包括:所述扫描线供应扫描信号,使得所述开关晶体管和所述感测晶体管导通,所述数据线供应初始数据电压至所述第一节点,所述采样线供应预设源极电压至所述第二节点;

其中,Vdata’=Vdata+Vth,Vdata’为所述初始数据电压,Vdata表示驱动所述像素的预设驱动电压,Vth表示所述驱动晶体管的实际阈值电压。

3.根据权利要求2所述的迁移率侦测补偿方法,其特征在于,在所述步骤B1之前,所述迁移率侦测补偿方法还包括对所述驱动晶体管的阈值电压进行侦测,以得到所述驱动晶体管的实际阈值电压。

4.根据权利要求3所述的迁移率侦测补偿方法,其特征在于,所述初始数据电压大于所述预设源极电压,且所述初始数据电压与所述预设源极电压之间的差值大于所述驱动晶体管的实际阈值电压。

5.根据权利要求1所述的迁移率侦测补偿方法,其特征在于,在所述步骤B1中,所述像素还包括第一开关元件和第二开关元件,所述第一开关元件的一端和所述第二开关元件的一端均与所述采样线电连接,所述第一开关元件的另一端与侦测源电连接,所述第二开关元件的另一端与初始电源电连接。

6.根据权利要求5所述的迁移率侦测补偿方法,其特征在于,所述步骤B3具体包括:控制所述开关晶体和所述感测晶体管导通,所述第一开关元件闭合,所述第二开关元件打开,所述采样线处于浮空状态;间隔所述预设时间段,所述侦测源通过所述采样线对所述第二节点的电压进行侦测。

7.根据权利要求1所述的迁移率侦测补偿方法,其特征在于,所述第一电源的电压值大于所述第二电源的电压值。

8.根据权利要求1所述的迁移率侦测补偿方法,其特征在于,补偿后的驱动电压的计算公式为

9.根据权利要求1所述的迁移率侦测补偿方法,其特征在于,所述像素包括红色像素、绿色像素或蓝色像素,颜色相同的多个所述像素对应的所述预设时间段相等。

10.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括多个像素,在所述显示装置中,采用如权利要求1-9任一项所述的迁移率侦测补偿方法,对多个所述像素中驱动晶体管的迁移率进行侦测补偿。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111493245.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top