[发明专利]一种由易氧化金属镀膜保护制备的高致密NiV合金溅射靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种高致密NiV合金溅射靶材的制备方法，由基材铸锭与清洗处理、基材镀膜、坯材轧制、再结晶处理和机加工处理工艺实现，其特征在于具体工艺步骤为：

（1）基材铸锭与清洗处理：使用纯度≥99.99wt％的Ni和V金属为原料，按照V：5~8wt％，Ni：92~95wt％的比例进行配料，将混合料放入中频真空感应熔炼炉中，待原料完全熔化后，按0.01~0.08%重量比加入除氧剂，继续保持熔融状态3~10min后，在浇铸模具上架设一漏斗，将合金熔体浇入模具中，待铸锭完全冷却后取出，并采用无水酒精进行超声清洗并干燥，得到铸锭；

（2）基材镀膜：将基材铸锭放置入电阻蒸发镀膜机中，将真空抽至≤1x10^-3Pa，以易氧化金属颗粒为蒸发料进行蒸发镀膜，镀膜电流50~200A，控制蒸发镀时间为5~15min，获得所需膜厚度的易氧化金属保护镀膜基材坯料；

（3）坯料轧制：先将镀膜基材于1100~1300℃温度下进行热轧，纵向轧制，单道次轧制变形量为12~30%，道次之间进行回炉加热，加热时间5~10min，总轧制变形量为60%；坯料冷却后再进行冷轧，横向轧制，单道次轧制变形量为3~6%，总轧制变形量为30%；

（4）再结晶处理：将轧制后的基材坯料于300~600℃温度下进行再结晶处理，再结晶时间为1~3h，取出空冷得到靶材板坯；

（5）机加工处理：对靶材板坯进行车削或者铣削加工获得所述的高致密NiV合金溅射靶材。

2.根据权利要求1所述高致密NiV合金溅射靶材的制备方法，其特征在于步骤（1）所述除氧剂为Mg₂Ni、MgNi₂、NiTi₂、NiTi、Ni₃Ti、NiAl₃、Ni₂Al、NiAl、Ni₅Al₃、Ni₃Al或其中二者以上的混合物。

3.根据权利要求1所述高致密NiV合金溅射靶材的制备方法，其特征在于步骤（1）所述易氧化金属为纯度≥99.99wt％的Ni，Al或Ti金属中一种以上。

4.根据权利要求1所述高致密NiV合金溅射靶材的制备方法，其特征在于步骤（3）所述热轧之纵向轧制的单道次轧制变形量为15~25%，道次之间回炉加热时间6~8min。

5.根据权利要求1所述高致密NiV合金溅射靶材的制备方法，其特征在于步骤（3）所述冷轧之横向轧制的单道次轧制变形量为4~5%。

6.根据权利要求1所述高致密NiV合金溅射靶材的制备方法，其特征在于步骤（4）所述基材坯料于400~500℃温度下进行再结晶处理，再结晶时间为1.5~2.5h，取出空冷得到靶材板坯。

7.根据权利要求1所述高致密NiV合金溅射靶材的制备方法，其特征在于所述基材表面有易氧化金属保护镀膜，其膜层厚度≤5μm；所述溅射靶材致密度≥99.5%，且无肉眼可见的缺陷，其纯度≥99.99wt％，氧含量≤30ppm，靶材的晶粒尺寸均匀，其平均晶粒尺寸为10~30μm；所述溅射靶材之表层机加工处理的去除深度≤0.5mm。

8.根据权利要求1所述高致密NiV合金溅射靶材的制备方法，其特征在于所述靶材之基材原料由纯度≥99.99wt％的Ni和V金属组成，其中V：6.5~7.5wt％，Ni：92.5~93.5wt％；及外加总重量比0.03~0.06%的除氧剂。