[发明专利]材积量测方法及材积量测设备在审
申请号: | 202111504215.3 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN116067275A | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 李永仁;江承祐;林欣宜 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/22;G01B11/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王文思 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 材积 方法 设备 | ||
1.一种材积量测方法,其特征在于,包括:
将透明载体设置在背景上方,并将待测物品放置在所述透明载体上以使所述待测物品的顶面与所述背景之间维持间隔距离;
通过设置在透明载体上方的深度摄影机撷取放置在所述透明载体上的所述待测物品的影像,其中所述待测物品的所述影像包括深度信息,且所述间隔距离大于或等于所述深度摄影机的最小深度量测极限;以及
根据所述待测物品的所述影像中的深度信息计算出所述待测物品的材积。
2.根据权利要求1所述的材积量测方法,其特征在于,根据所述待测物品的所述影像中的所述深度信息计算出所述待测物品的材积包括:
经由处理器中的侧边侦测演算模块以确认所述待测物品的侧边;
经由所述处理器中的噪声比对模块去除由所述透明载体所导致的噪声;以及
根据所述待测物品的深度信息以及所述待测物品的侧边,经由所述处理器中的材积演算模块计算出所述待测物品的材积。
3.根据权利要求2所述的材积量测方法,其特征在于,经由处理器中的所述侧边侦测演算模块以确认所述待测物品的侧边包括:
经由所述侧边侦测演算模块对所述待测物品的所述影像进行二值化以及去背处理;
经由所述侧边侦测演算模块对经过二值化以及去背处理的所述影像进行去噪声处理;
经由所述侧边侦测演算模块在所述影像中确认出所述待测物品的分布范围;以及
经由所述侧边侦测演算模块对分布在所述待测物品的所述分布范围内的所有像素从所述分布范围的边界向所述分布范围的中心进行突波侦测,以在所述影像中确认出所述待测物品的侧边。
4.根据权利要求3所述的材积量测方法,其特征在于,所述突波侦测包括:
经由所述侧边侦测演算模块从所述分布范围的边界向所述分布范围的中心分析任2个邻近像素的深度信息,直到分析完位在所述分布范围的边界上的所有像素为止,
当像素的深度值为0时,视为突波,
当2个邻近像素的深度值差为1.5厘米时,视为所述待测物品的所述侧边。
5.根据权利要求2所述的材积量测方法,其特征在于,经由所述处理器中的所述噪声比对模块去除由所述透明载体所导致的噪声包括:
经由所述深度摄影机撷取所述背景的第一影像;
经由所述深度摄影机撷取所述透明载体设置在所述背景上方的第二影像;
经由所述噪声比对模块比对所述第一影像与所述第二影像以获得背景噪声影像;
经由所述深度摄影机撷取放置在所述透明载体上的所述待测物品的影像;以及
经由所述噪声比对模块从所述影像中扣除所述第一影像以及所述背景噪声影像。
6.一种材积量测设备,其特征在于,包括:
透明载体,设置在背景上方,所述透明载体适于承载待测物品;
深度摄影机,设置在所述透明载体上方,其中所述待测物品的顶面与所述背景之间维持间隔距离,且所述间隔距离大于或等于所述深度摄影机的最小深度量测极限;以及
处理器,根据所述待测物品的所述影像计算出所述待测物品的材积。
7.根据权利要求6所述的材积量测设备,其特征在于,所述深度摄影机包括红外线深度摄影机,而所述透明载体包括红外线可穿透材质。
8.根据权利要求7所述的材积量测设备,其特征在于,所述红外线可穿透材质包括玻璃、压克力、聚甲基丙烯酸甲酯或前述材料的组合。
9.根据权利要求6所述的材积量测设备,其特征在于,所述待测物品的顶面与所述背景之间维持的所述间隔距离大于或等于10厘米。
10.根据权利要求6所述的材积量测设备,其特征在于,所述处理器包括侧边侦测演算模块、噪声比对模块以及材积演算模块。
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