[发明专利]一种基于同心圆对位设计的线圈电路板设计制造方法在审
申请号: | 202111510231.3 | 申请日: | 2021-12-11 |
公开(公告)号: | CN114375096A | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 汪鑫振;李强;朱惠民;畅进辉;何立发 | 申请(专利权)人: | 龙南骏亚精密电路有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00 |
代理公司: | 北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙) 11947 | 代理人: | 程文栋 |
地址: | 341700 江西省赣州市龙*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 同心圆 对位 设计 线圈 电路板 制造 方法 | ||
1.一种基于同心圆对位设计的线圈电路板设计制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
a:基于所需设计的线圈电路板,获得初始状态下的内层图形样式、外层图形样式;
b:在内层图形样式上选定对准度区域,并在对准度区域设置五个孔,孔的孔径设计为0.4mm,且其中4个孔基于开窗设计,并设计孔到铜距离分别为6mil(开窗28mil)、7mil(开窗30mil)、8mil(开窗32mil)、9mil(开窗34mil),另外一个孔的设计基于接地、不开窗且与铜皮连接;
c:依照步骤b对初始状态下的外层图形样式进行设计,其中针对开窗的四个孔,外层设计孔环单边10mil,并标注孔到铜距离6、7、8、9;针对不开窗接地的孔,标注D;
d:针对步骤b完成后的内层图形样式,基于电路板的制作方法,光绘出底片,经过内层曝光-显影-蚀刻-退膜后形成内层图形,根据内层图形设计蚀刻出所有内层;
e:针对步骤c完成后的外层图形样式,步骤d完成后,基于电路板的制作方法,经内层、压合、钻孔、电镀、干膜、蚀刻工艺制作成外层图形,进一步完成防焊、文字、化金流程,此时即获得线圈电路板初板;
f:根据允许的层偏值对线圈电路板初板进行测量,如果基于接地所设计的孔与所允许的层偏值所代表的孔之间短路,此时则层偏大于所允许的层偏值,即所获得的线圈电路板初板需报废;反之所获得的线圈电路板初板符合要求;
g:针对符合要求的线圈电路板初板,基于线圈电路板的设计需求,对中部多余的板体及四周多余的板体分别进行锣掉,此时即获得符合要求的线圈电路板。
2.根据权利要求1所述的一种基于同心圆对位设计的线圈电路板设计制造方法,其特征在于,所述对准度区域设在线圈电路板中部所需锣掉的板体内。
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