[发明专利]基于行为分析的学员评价方法、装置、设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202111513646.6 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114331045A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 罗达雄;涂萌颖 申请(专利权)人: 汉中砺芯半导体有限责任公司
主分类号: G06Q10/06 分类号: G06Q10/06;G06Q50/20
代理公司: 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 代理人: 王启蒙
地址: 723000 陕西省汉中市*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 行为 分析 学员 评价 方法 装置 设备 存储 介质
【说明书】:

发明属于集成电路学员评价技术领域,公开了一种基于行为分析的学员评价方法、装置、设备及存储介质。该方法包括:获取学员在预设时段内的学习信息;从所述学习信息中获取学员的学习行为信息;根据所述学习行为信息对所述学员进行学习行为分析,获得分析结果;根据所述分析结果和预设学习指标权重生成所述学员的学习评价结果。本发明上述方式能够根据学员的学习行为对学员进行分析,更加全面的获得学员的学习评价结果,可以及时淘汰部分不适合集成电路领域的学员,降低企业的培训成本。

技术领域

本发明涉及集成电路设计培训技术领域,尤其涉及一种基于行为分析的学员评价方法、装置、设备及存储介质。

背景技术

传统教育的评价方式都比较单一、分散,比如通过学习获取文凭,或者迫于一些现实的压力等。现在随着大数据时代的来临,基于大规模的学员数据可以进行一些分析,但是目前的都是基于一些特定主题的大数据分析系统,或直接基于学员的考核成绩对学员进行分析,对于学员的分析不够准确和全面。尤其是随着集成电路技术的发展,集成电路设计公司需要快速响应市场,并满足其芯片产品的低成本、低风险、敏捷设计的需求。但芯片从设计到实现是个系统工程,还需要芯片分析、设计验证、物理实现、制造与封测服务等环节,但IC设计公司几乎都没有足够的人力物力和财力来为IC的实现提供相应的配套服务方案。据统计,我国每年约有1万~2万名工程师进入集成电路设计行业,而我国集成电路人才的缺口2020年达5万多人,2025年将达30万多人。人才才是决定企业发展的重要因素。为此,企业必须要制定一个全面的人才发展计划,社会招聘只是一个短期的应急解决方案,要想长期稳定的为企业输送高素质专业人才,不断提升企业内部员工的综合素质,培养储备集成电路人才是根本的途径,因此,需要集成电路设计企业自己培养集成电路设计人才。目前,企业都是通过人工进行线下教学,这种培训方式效率低,且没有针对性系统学习,另外,企业也不知道招聘进来的人,培训掌握的知识怎么样,短期内不能淘汰一些不适合的人,进而导致企业的成本增加。

上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案,并不代表承认上述内容是现有技术。

发明内容

本发明的主要目的在于提供了一种基于行为分析的学员评价方法、装置、设备及存储介质,旨在解决现有技术仅根据学员的考试成绩对学员进行评价导致的评价结果不够准确,无法及时淘汰部分不适合集成电路领域的学员,导致的企业培训成本高的技术问题。

为实现上述目的,本发明提供了一种基于行为分析的学员评价方法,所述方法包括以下步骤:

获取学员在预设时段内的学习信息;

从所述学习信息中获取学员的学习行为信息;

根据所述学习行为信息对所述学员进行学习行为分析,获得分析结果;

根据所述分析结果和预设学习指标权重生成所述学员的学习评价结果。

可选地,所述根据所述学习行为信息对所述学员进行学习行为分析,获得分析结果的步骤,包括:

根据所述学习行为信息确定所述学员的学习时长和学习频率;

根据所述学习时长和所述学习频率确定第一学习评分;

根据所述学习行为信息中的作业完成信息确定所述学员的第二学习评分;

根据所述学习行为信息中的学员考核信息确定所述学员的第三学习评分;

根据所述第一学习评分、所述第二学习评分和所述第三学习评分对所述学员进行学习行为分析,获得分析结果。

可选地,所述根据所述学习行为信息中的学员考核信息确定所述学员的第三学习评分的步骤,包括:

根据所述学习行为信息获取所述学员的学员考核信息;

根据所述学员考核信息获取所述学员的考核录像和考核分数;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于汉中砺芯半导体有限责任公司,未经汉中砺芯半导体有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111513646.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top