[发明专利]一种真空蒸镀机的坩埚系统

说明书

本申请提供一种真空蒸镀机的坩埚系统，所述坩埚系统包括电子枪结构和坩埚结构，电子枪结构设置在坩埚结构的前方，电子枪结构发出电子束轰击加热坩埚结构的坩埚内的膜料；所述电子枪结构包括支座、灯丝、高压头、一体式线圈和磁极，所述支座具有一个从上向下的凹陷部，灯丝和高压头设置在凹陷部内，高压头设置在灯丝的下方，高压头对灯丝进行高压放电，一体式线圈设置在灯丝的前方，磁极设置在支座的两侧和后方，一体式线圈由一个水平横向设置的X线圈和两个水平纵向设置的Y线圈组成，X线圈设置在前方，两个Y线圈分别与X线圈的两端连接并且位于X线圈的后方，所述一体式线圈和磁极用于使得打入坩埚内的光斑为点形或圆形。

技术领域

本发明涉及真空蒸镀机技术领域，更具体地，涉及一种真空蒸镀机的坩埚系统。

背景技术

真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。

在真空蒸镀的加工工艺中，在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source)，加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化，以扇形的结构向上蒸发，坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅，镀锅上固定有被镀膜工件，因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。在现有技术中，电子枪通过磁场转向之后打入坩埚内的光斑为月牙形，光斑为电子束打出的能量形成的能量环，若膜料为光学膜料或非金属膜料，由于光学膜料或非金属膜料的熔点低，光斑处容易形成深坑，甚至损坏坩埚。并且，现有技术的X线圈设置在坩埚装置的前下方，两个Y线圈分别设置在坩埚装置的两侧，X线圈与一个类型的坩埚匹配，不同的坩埚类型匹配不同的X线圈，通用性差。

有鉴于此，本发明提供一种真空蒸镀机的坩埚系统，适用于各种类型的坩埚，并且能适用于非金属膜料。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种真空蒸镀机的坩埚系统，适用于各种类型的坩埚，并且能适用于非金属膜料。

本申请的真空蒸镀机的坩埚系统，电子枪结构和坩埚结构是两个独立的结构，一个电子枪结构适用于各种类型坩埚结构，通用性强；更重要的是，电子枪的结构设计，磁场环抱的磁场强度强且调整余量大，因此，打入坩埚内的光斑为点形或圆形，并且圆形的大小可调，能够蒸镀熔点低的光学膜料或非金属材料。本申请人在此基础上完成了本申请。

一种真空蒸镀机的坩埚系统，所述坩埚系统包括电子枪结构1和坩埚结构2，电子枪结构1设置在坩埚结构2的前方，电子枪结构1发出电子束轰击加热坩埚结构2的坩埚21内的膜料；所述电子枪结构1包括支座11、灯丝12、高压头13、一体式线圈14和磁极15，所述支座11具有一个从上向下的凹陷部111，灯丝12和高压头13设置在凹陷部111内，高压头13设置在灯丝12的下方，高压头13对灯丝12进行高压放电，一体式线圈14设置在灯丝12的前方，磁极15设置在支座11的两侧和后方，一体式线圈14由一个水平横向设置的X线圈141和两个水平纵向设置的Y线圈142组成，X线圈141设置在前方，两个Y线圈142分别与X线圈141的两端连接并且位于X线圈141的后方，所述一体式线圈14和磁极15用于使得打入坩埚21内的光斑为点形或圆形。

在一些实施方式中，所述一体式线圈14通电后，在磁极15的作用下以磁场环抱的方式使得打入坩埚21内的光斑为点形或圆形，通过调整两个Y线圈142的电流大小调整光斑的大小。

进一步的，调整在X线圈141的左侧的Y线圈142的电流增大、并且调整在X线圈141的右侧的Y线圈142的电流减小，光斑向左移动；同理，调整在X线圈141的左侧的Y线圈142的电流减小、并且调整在X线圈141的右侧的Y线圈142的电流增大，光斑向右移动。