[发明专利]晶圆清洗装置

权利要求书

1.一种晶圆清洗装置，包括用于清洗晶圆的刷头，其特征在于，所述晶圆清洗装置还包括：

偏移模块，所述刷头设于所述偏移模块上，所述偏移模块用于带动刷头移动；

刷头旋转模块，用于带动所述刷头绕所述刷头的轴心旋转。

2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述偏移模块包括第一旋转机构、第一传动机构及第二传动机构；

所述第一旋转机构与所述第一传动机构同轴设置；

所述第二传动机构与所述第一传动机构垂直连接；

所述刷头设于所述第二传动机构上，且所述刷头与所述第一传动机构间隔预设距离；

所述第一旋转机构通过所述第一传动机构带动所述第二传动机构绕所述第一传动机构的轴线旋转，以带动所述刷头移动。

3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述第一传动机构为中空的旋转轴，所述第二传动机构为中空壳体；

所述刷头旋转模块包括第二旋转机构、第三传动机构及第四传动机构；

所述第三传动机构穿插于所述旋转轴中，所述第四传动机构设于所述中空壳体中；

所述刷头通过刷头传动机构固定于所述中空壳体外侧，且所述刷头设于所述中空壳体的下侧；

所述第二旋转机构依次通过所述第三传动机构、第四传动机构及所述刷头传动机构带动所述刷头绕所述刷头的轴心旋转。

4.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置，其特征在于，

所述第三传动机构包括联轴器和传动轴；

所述第四传动机构包括皮带轮传动组件；

所述第二旋转机构依次通过所述联轴器、传动轴、皮带轮传动组件及所述刷头传动机构带动所述刷头绕所述刷头的轴心旋转。

5.根据权利要求4所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述中空壳体中还设有松紧调节组件，所述松紧调节组件与所述皮带轮传动组件相邻，用于调节所述皮带轮传动组件中的皮带的松紧。

6.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述晶圆清洗装置还包括喷射头模块，所述喷射头模块设于所述偏移模块上，所述喷射头模块随所述刷头移动而移动。

7.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述晶圆清洗装置还包括第一基座、第二基座和升降模块、所述偏移模块与所述刷头旋转模块设于所述第一基座上，所述升降模块带动所述第一基座在所述第二基座上上下移动。

8.根据权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述第一基座通过滑轨机构与所述第二基座滑动连接。

9.根据权利要求8所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述第一基座中设有定位块；

所述第二基座中设有上缓冲机构和下缓冲机构，所述上缓冲机构和所述下缓冲机构分别位于所述定位块的上下两侧，并分别用于在所述第一基座移动至上限定位置及下限定位置时进行缓冲。

10.根据权利要求8所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述上缓冲机构和所述下缓冲机构均由液压缓冲器构成。