[发明专利]一种半导体器件清洗装置在审
申请号: | 202111516712.5 | 申请日: | 2021-12-13 |
公开(公告)号: | CN114260248A | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 蒋孝波 | 申请(专利权)人: | 无锡子索生化科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/10 | 分类号: | B08B3/10;H01L21/67 |
代理公司: | 江苏瀛恒律师事务所 32601 | 代理人: | 曾昭昱 |
地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体器件 清洗 装置 | ||
本发明提供一种半导体器件清洗装置,针对国内目前半导体体材料及工件清洗利弊及缺限,来整合有效清洗方法和清洁提纯技术装置,保证半导体非平面非线性的崎形异状的工件及石英炉管等材料的清洗去残液污垢并彻底,保证局部犄角清洗腐蚀干净、到位,显而保证了后道制程工艺的进行和质量置,其特征在于:其包括夹具支架,所述夹具支架上设置夹具支架卡套,所述夹具支架连接中心轴杆,所述中心轴杆连接传动机构,所述夹具支架连接摆动机构。
技术领域
本发明涉及实验室装备的技术领域,特别涉及一种半导体器件清洗装置。
背景技术
目前国内大部分科研院所及事企在半导体材料工艺、MEMS、TFT-LCD、LED、幑电子、集成电路、红外探测器、光伏光纤、红外热成像行业工艺清洗制程和刻蚀过程中,针对非平面非线性的崎形异状的工件(比如大小头,S形,葫芦形等犄角)以及石英炉管等材料的清洗去残液污垢并不是很彻底,局部犄角清洗腐蚀不干净不到位,显而影响后道制程工艺的进行和质量,对于后道清洗、光刻、图片成形、 曝光、烘干、刻蚀工艺环节都有很大的质量影响。
发明内容
针对上述技术问题,本发明提供一种半导体器件清洗装置,针对国内目前半导体体材料及工件清洗利弊及缺限,来整合有效清洗方法和清洁提纯技术装置,保证半导体非平面非线性的崎形异状的工件及石英炉管等材料的清洗去残液污垢并彻底,保证局部犄角清洗腐蚀干净、到位,显而保证了后道制程工艺的进行和质量。
其技术方案是这样的:一种半导体器件清洗装置,其特征在于:其包括夹具支架,所述夹具支架上设置夹具支架卡套,所述夹具支架连接中心轴杆,所述中心轴杆连接传动机构,所述夹具支架连接摆动机构。
其进一步特征在于:所述半导体器件清洗装置包括空心主轴,所述空心主轴内设置主轴,所述主轴连接驱动装置,所述主轴通过带式传动装置连接所述中心主轴,形成所述传动机构;所述空心主轴连接摆动装置,所述空心主轴通过传动手臂连接所述夹具支架;所述夹具支架上设置有多个夹具支架卡套;所述空心主轴两侧内分别设置有内齿轮,所述主轴上套装有外齿轮,所述外齿轮通过三个齿轮啮合所述内齿轮;所述主轴上设置有驱动齿轮,所述驱动齿轮通过驱动链连接第一电机,形成所述驱动装置,所述主轴上设置有第一带轮,所述中心轴杆上设置有第二带轮,所述第一带轮和所述第二带轮通过传动带连接,形成所述带式传动装置;所述第一带轮和所述第二带轮为带式轮,所述传动带为与所述带式轮配合的皮带链或者同步带;所述皮带链或者同步带为四氟材料;所述空心主轴上设置有空心主轴齿轮,所述空心主轴齿轮通过电机齿轮啮合连接第二电机,形成摆动装置。
本发明采用上述结构,由于夹具支架上设置夹具支架卡套,所述夹具支架连接中心轴杆,中心轴杆连接传动机构,夹具支架连接摆动机构,待清洗的半导体器件通过夹具支架卡套固定,传动机构带动夹具支架转动,摆动机构带动夹具支架摆动,夹具支架实现转动和摆动,支架卡套随夹具支架转动和摆动,形成夹具支架悬空浸泡在药液槽中自动翻滚清洗,在药槽中反复翻滚转动实现自动化节拍抛动抖动清洗,彻底重力清除残液和圬垢,保证半导体非平面非线性的崎形异状的工件及石英炉管等材料的清洗去残液污垢并彻底,保证局部犄角清洗腐蚀干净、到位,显而保证了后道制程工艺的进行和质量。
附图说明
图1是本发明半导体器件清洗装置示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明做进一步说明。
见图1一种半导体器件清洗装置,其包括夹具支架1,夹具支架1上设置夹具支架卡套2,夹具支架1连接中心轴杆3,中心轴杆3连接传动机构4,夹具支架1连接摆动机构5。
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