[发明专利]一种硫属有机半导体的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111522448.6 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN114369101B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 胡鹏;蔡明杰 申请(专利权)人: 西北大学
主分类号: C07D495/06 分类号: C07D495/06;C07D339/04;C07C319/02;C07C321/26
代理公司: 西安永生专利代理有限责任公司 61201 代理人: 高雪霞
地址: 710069 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 有机半导体 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种硫属有机半导体的制备方法,其特征在于:将硫源和芳香族化合物混合均匀后置于石英管内一端,对石英管抽真空并密封;然后将密封的石英管置于双区管式炉中,其中石英管盛有原料的一端置于高温区,另一端置于低温区,高温区温度设置为200~280℃,低温区温度比高温区温度低20~60℃,加热反应1~6小时后退火1~6小时,得到硫属有机半导体;

所述硫源选自升华硫、二苯二硫、噻吩中任意一种,所述芳香族化合物选自并五苯、并四苯、苝、蒽、菲中任意一种,芳香族化合物对应的硫属有机半导体为六硫并五苯、四硫并四苯、二硫苝、四硫蒽、四硫菲。

2.根据权利要求1所述的硫属有机半导体的制备方法,其特征在于:所述硫源和芳香族化合物的质量比为1:0.6~1。

3.根据权利要求1所述的硫属有机半导体的制备方法,其特征在于:高温度温度设置为240~280℃。

4.根据权利要求3所述的硫属有机半导体的制备方法,其特征在于:所述低温区温度比高温区温度低20~40℃。

5.根据权利要求3所述的硫属有机半导体的制备方法,其特征在于:加热反应2~4小时。

6.根据权利要求3所述的硫属有机半导体的制备方法,其特征在于:退火1~2小时。

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