[发明专利]一种待转移器件的位置识别方法及设备

权利要求书

1.一种待转移器件的位置识别方法，其特征在于，所述方法包括：

在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中，识别到目标标记区域后，确定所述目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标，其中，所述分布区域为待转移器件在所述Wafer中的占用区域；

基于所述第一目标位置坐标和所述标记点对应的第一历史位置坐标，确定坐标转换关系，其中，所述第一历史位置坐标是，基于预先识别的所述Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中，至少一个第二历史位置坐标确定的，所述第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标，且所述转移设备和所述辅助设备的坐标系相同；

基于所述坐标转换关系，对所述Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换，获得所述各个待转移器件相对所述转移设备的第二目标位置坐标。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述识别到目标标记区域之后，基于所述第一目标位置坐标和所述标记点对应的第一历史位置坐标，确定坐标转换关系之前，还包括：

对所述分布区域进行划分，获得至少一个子区域；

针对任一子区域，在所述子区域中，识别验证区域中包含的各个目标待转移器件对应的第三目标位置坐标，并基于识别的所述各个目标待转移器件的第三目标位置坐标，确定所述各个目标待转移器件之间的目标相对位置；

基于所述各个目标待转移器件之间的目标相对位置，与所述各个目标待转移器件之间的历史相对位置，确定偏移量；

若确定所述偏移量在误差允许范围内，则基于所述第一目标位置坐标和所述标记点对应的第一历史位置坐标，确定所述坐标转换关系。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述分布区域进行划分，包括：

基于识别到的所述目标标记区域对应的所述标记点的第一目标位置坐标，将所述分布区域划分成与所述标记点数量一致的至少一个所述子区域，其中，每个所述子区域中包含一个所述目标标记区域。

4.如权利要求1～3任一所述的方法，其特征在于，所述在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中，识别到目标标记区域，具体包括：

基于历史标记区域相对所述Wafer中分布区域的位置信息，识别所述分布区域中与所述位置信息相同的位置上的待转移器件，并确定识别到的所述待转移器件组成的目标区域；

在确定所述目标区域与历史标记区域的轮廓一致后，确定识别到所述目标标记区域；

其中，所述历史标记区域是在辅助设备中，针对所述Wafer中各个待转移器件，识别获得相应的第二历史位置坐标后，进行标记的。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定所述目标标记区域对应的标记点的目标位置坐标，包括：

若所述标记区域中包含一个待转移器件，则将所述一个待转移器件相对所述转移设备的第二目标位置坐标，作为所述标记点的第一目标位置坐标；

若所述标记区域中包含有多个待转移器件，则确定各个待转移器件的相对所述转移设备的第二目标位置坐标，并将所有第二目标位置坐标进行平均，将平均值作为所述标记点的第一目标位置坐标。

6.一种待转移器件的位置识别装置，其特征在于，所述装置包括：

第一确定单元，用于在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中，识别到目标标记区域后，确定所述目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标，其中，所述分布区域为待转移器件在所述Wafer中的占用区域；

第二确定单元，用于基于所述第一目标位置坐标和所述标记点对应的第一历史位置坐标，确定坐标转换关系，其中，所述第一历史位置坐标是，基于预先识别的所述Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中，至少一个第二历史位置坐标确定的，所述第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标，且所述转移设备和所述辅助设备的坐标系相同；

获得单元，用于基于所述坐标转换关系，对所述Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换，获得所述各个待转移器件相对所述转移设备的第二目标位置坐标。