[发明专利]一种待转移器件的位置识别方法及设备

说明书

本申请提供一种待转移器件的位置识别方法及设备；在转移设备的目标基台上承载的Wafer的分布区域中，识别到目标标记区域后，确定目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标，分布区域为待转移器件在Wafer中的占用区域，基于第一目标位置坐标和标记点对应的第一历史位置坐标，确定坐标转换关系，第一历史位置坐标是基于预先识别的Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中的至少一个确定的，第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标，且转移设备和辅助设备的坐标系相同；基于坐标转换关系，对Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换，获得各个待转移器件相对转移设备的第二目标位置坐标，缩短识别时间。

技术领域

本发明涉及器件转移技术领域，尤其涉及一种待转移器件的位置识别方法及设备。

背景技术

转移设备将分布在Wafer(晶圆)上的数千乃至数万枚待转移器件转移到基板的转移目标上时，通过Wafer与基板的相对移动，改变待转移器件与转移目标的相对位置，当确定待转移器件和转移目标的位置完全对正时，转移设备将待转移器件转移至转移目标上，完成一次转移。

在开始转移前，转移设备需要确定待转移器件和转移目标的位置坐标。由于不同的Wafer上，待转移器件相对Wafer的位置坐标不同，因此转移设备需要通过相机对Wafer上的待转移器件的位置坐标进行拍照识别，以确定Wafer上待转移器件的位置坐标。

在进行拍照识别时，一方面受限于设备机械结构及相机的最大分辨率，无法通过增加相机到Wafer的距离来实现在同一个相机视野内拍摄大量待转移器件，另一方面，相机视野的边缘存在畸变，识别精度较差。为了保证识别精度，相机一次拍摄少量的待转移器件，然后通过相机与Wafer的相对移动，多次切换相机视野进行拍照，并采用视觉的拼接算法计算得到所有待转移器件的位置坐标。

综上，相机需要与Wafer相对移动上百次才能完成所有待转移器件的位置识别，导致转移设备需要花费大量时间识别待转移器件的位置坐标，工作效率低。

发明内容

本申请提供一种待转移器件的位置识别方法及装置，用以缩短转移设备识别待转移器件的位置坐标的时间，提升转移效率。

第一方面，本申请实施例提供一种待转移器件的位置识别方法，该方法包括：

在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中，识别到目标标记区域后，确定目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标，其中，分布区域为待转移器件在Wafer中的占用区域；

基于第一目标位置坐标和标记点对应的第一历史位置坐标，确定坐标转换关系，其中，第一历史位置坐标是，基于预先识别的Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中，至少一个第二历史位置坐标确定的，第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标，且转移设备和辅助设备的坐标系相同；

基于坐标转换关系，对Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换，获得各个待转移器件相对转移设备的第二目标位置坐标。

第二方面，本申请实施例提供一种待转移器件的位置识别装置，该装置包括：

第一确定单元，用于在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中，识别到目标标记区域后，确定目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标，其中，分布区域为待转移器件在Wafer中的占用区域；

第二确定单元，用于基于第一目标位置坐标和标记点对应的第一历史位置坐标，确定坐标转换关系，其中，第一历史位置坐标是，基于预先识别的Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中，至少一个第二历史位置坐标确定的，第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标，且转移设备和辅助设备的坐标系相同；

获得单元，用于基于坐标转换关系，对Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换，获得各个待转移器件相对转移设备的第二目标位置坐标。