[发明专利]一种表面摩擦系数低的铝塑膜及其制备方法

权利要求书

1.一种表面摩擦系数低的铝塑膜，其特征在于：包括由内至外依次复合的聚烯烃薄膜层、第一胶黏剂层、铝箔层、第二胶黏剂层、聚酰胺薄膜层、第三胶黏剂层和聚酯薄膜层，且所述聚烯烃薄膜层外表面呈现纳米级凹凸结构。

2.根据权利要求1所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜，其特征在于：所述聚酯薄膜层厚度为3-12微米。

3.根据权利要求1所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜，其特征在于：所述第三胶黏剂层厚度为4-6微米。

4.根据权利要求3所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜，其特征在于：所述聚酰胺薄膜层厚度为10-20微米。

5.根据权利要求1所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜，其特征在于：所述第二胶黏剂层厚度为4-6微米。

6.根据权利要求1所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜，其特征在于：所述铝箔层厚度为40-60微米。

7.根据权利要求6所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜，其特征在于：所述第一胶黏剂层厚度为2-10微米。

8.根据权利要求1所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜，其特征在于：所述聚烯烃薄膜层厚度为40-80微米。

9.根据权利要求1至8任一项所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）将铝箔层进行双面钝化处理，钝化后铝箔层一面涂布一层第二胶黏剂层，再与聚酰胺薄膜层通过干式复合方式低温复合到一起，得到聚酰胺薄膜层-铝箔层的复合体；

2）在上述步骤1）中得到的复合体的聚酰胺薄膜层表面涂布一层第三胶黏剂层，再与聚酯薄膜层通过干式复合方式低温复合到一起，得到聚酯薄膜层-聚酰胺薄膜层-铝箔层的复合体；

3）在上述步骤2）中得到的复合体的铝箔层另一表面涂布一层第一胶黏剂层，通过热复合的方式将聚烯烃薄膜层与复合体结合到一起，形成聚酯薄膜层-聚酰胺薄膜层-铝箔层-聚烯烃薄膜层的复合体；

4）根据上述步骤3）中得到的复合体的聚烯烃薄膜层分子振动频率，对聚烯烃薄膜层表面施加一束相同频率的红外线，使聚烯烃薄膜层分子振动迅速加剧到远高于正常振动频率，且牵引聚烯烃薄膜层表面经过一个微观下表面纳米级凹凸的冷却单元，同时在聚酯薄膜层向聚烯烃层方向施加一定压力，使纳米级冷却单元表面凹凸反印到聚烯烃薄膜层表面，并在此同时冷却定型，使聚烯烃薄膜层表面呈现出纳米级凹凸外观，冷却定型后的复合体即一种表面摩擦系数低的铝塑膜。

10.根据权利要求1至8任一项所述的一种表面摩擦系数低的铝塑膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）将铝箔层进行双面钝化处理，钝化后铝箔层一面涂布一层第二胶黏剂层，再与聚酰胺薄膜层通过干式复合方式低温复合到一起，得到聚酰胺薄膜层-铝箔层的复合体；

2）在上述步骤1）中得到的复合体的聚酰胺薄膜层表面涂布一层第三胶黏剂层，再与聚酯薄膜层通过干式复合方式低温复合到一起，得到聚酯薄膜层-聚酰胺薄膜层-铝箔层的复合体；

3）根据聚烯烃薄膜层分子振动频率，对聚烯烃薄膜层表面施加一束相同频率的红外线，使聚烯烃薄膜层分子振动迅速加剧到远高于正常振动频率，且牵引聚烯烃薄膜层表面经过一个微观下表面纳米级凹凸的冷却单元，同时在聚酯薄膜层向聚烯烃层方向施加一定压力，使纳米级冷却单元表面凹凸反印到聚烯烃薄膜层表面，并在此同时冷却定型，使聚烯烃薄膜层表面呈现出纳米级凹凸外观；

4）在上述步骤2）中得到的复合体的铝箔层另一表面涂布一层第一胶黏剂层，通过热复合的方式将复合体与步骤3）中得到的聚烯烃薄膜层结合到一起，形成聚酯薄膜层-聚酰胺薄膜层-铝箔层-聚烯烃薄膜层的复合体，冷却定型后的复合体即一种表面摩擦系数低的铝塑膜。