[发明专利]一种显示面板的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111531929.3 申请日: 2021-12-14
公开(公告)号: CN114267708A 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 汪国杰;瞿红 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 王胜男
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 制备 方法
【说明书】:

发明的实施例公开了一种显示面板的制备方法,包括以下步骤:制备第一电极阵列排布于阵列基板上,相邻所述第一电极在第一方向上形成第一间隔,相邻所述第一电极在第二方向上形成第二间隔;整层覆盖负性材料于所述第一电极以及所述阵列基板上;对整层覆盖的所述负性材料进行曝光、显影,所述第一间隔内的负性材料形成具有疏水性的第一像素定义层,所述第二间隔内的负性材料形成具有疏水性的第二像素定义层;对所述第一像素定义层再次曝光,使所述第一像素定义层具有亲水性。根据本发明,只需要涂布一层负性材料,并进行曝光显影再曝光便可得到两层像素定义层,节省了材料、设备的成本和时间成本,提高了制作效率。

技术领域

本发明涉及显示面板领域,特别涉及一种显示面板的制备方法。

背景技术

有机发光二极管(OLED)器件具有自发光、视角光、对比度高、响应速度快、轻薄等特点,已成为显示技术的主要趋势。相对于采用精细掩模版及真空蒸镀OLED器件来说,喷墨打印技术因其精准的对位,无需Fine Metal Mask,且其材料利用率可以达到100%而备受关注,成为未来大尺寸OLED器件制作的主流趋势。

有机发光二极管像素排列通常由多个像素点构成,每个像素点包含红色(R)子像素、绿色(G)子像素和蓝色(B)子像素,R、G、B子像素依次循环排列,组成矩阵。这种传统的像素排列结构存在以下问题:(1)在打印过程中,由于某个打印头喷嘴不稳定,导致此喷嘴参与打印的像素内墨滴的体积偏大或偏小,导致产品显示时,出现一条条亮线或暗线,产生线性mura;(2)只有与子像素所对应的喷嘴进行喷墨,而处于子像素与子像素之间的喷嘴不喷墨水,导致喷嘴利用率低,打印循环次数多,打印时间长,先后打印的墨水挥发干燥情况不同,产生干燥mura。

为了解决上述技术问题,现有技术采取的技术方案是将所有红色子像素连接起来,所有绿色子像素连接起来,蓝色子像素连接起来,形成线性像素行,如此,打印到像素中的墨水就可以互相流通,最终将体积平均化,进而解决上述技术问题。

但是,为了独立发光,需要在横纵方向分别制作第一像素定义层和第二像素定义层。因为第一像素定义层为亲水性材料,第二像素定义层为疏水性材料,所以,需要分别制作两次涂胶曝光显影制程,步骤繁琐,材料费用高,设备数量增加,使得费用成本和时间成本都增加。

有鉴于此,实有必要开发一种显示面板的制备方法,用以解决制作两层像素定义层花费的金钱成本和时间成本增加的问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示面板的制备方法,用以解决制作两层像素定义层花费的金钱成本和时间成本增加的问题。

为了解决上述技术问题,本发明的实施例公开了如下技术方案:

提供了一种显示面板的制备方法,包括以下步骤:提供一阵列基板;制备第一电极于阵列基板上,所述第一电极阵列排布于所述阵列基板上,相邻所述第一电极在第一方向上形成第一间隔,相邻所述第一电极在第二方向上形成第二间隔;整层覆盖负性材料于所述第一电极以及所述阵列基板上;对整层覆盖的所述负性材料进行曝光、显影,所述第一间隔内的负性材料形成具有疏水性的第一像素定义层,所述第二间隔内的负性材料形成具有疏水性的第二像素定义层;对所述第一像素定义层再次曝光,使所述第一像素定义层具有亲水性;制备发光层于所述第一电极上。

除了上述公开的一个或多个特征之外,或者作为替代,所述第二像素定义层的厚度大于所述第一像素定义层的厚度。

除了上述公开的一个或多个特征之外,或者作为替代,所述第一像素定义层的厚度范围为0.2um-0.5um,所述第二像素定义层的厚度范围为1um到2um。

除了上述公开的一个或多个特征之外,或者作为替代,所述第一像素定义层的厚度大于所述第一电极的厚度。

除了上述公开的一个或多个特征之外,或者作为替代,所述发光层的厚度小于所述所述第二像素定义层的厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111531929.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top