[发明专利]一种微纳米复合结构的制作方法在审
申请号: | 202111535460.0 | 申请日: | 2021-12-15 |
公开(公告)号: | CN114347623A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 陈艳;冯鸿涛;高顺畅 | 申请(专利权)人: | 深圳先进技术研究院 |
主分类号: | B32B33/00 | 分类号: | B32B33/00;B32B3/08;B32B3/24;B32B3/30;B32B7/12;B32B27/06;B32B27/28;B32B27/30;B32B27/32;B32B27/36 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 李珊珊 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 复合 结构 制作方法 | ||
1.一种微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供第一支撑件,在所述第一支撑件上形成塑形层,所述塑形层的形状可变;
在所述塑形层上层叠设置分隔层,所述分隔层形成有第一通孔;
在所述分隔层上层叠设置纳米模板,所述纳米模板包括第一基层和多个纳米柱,多个所述纳米柱形成在所述第一基层朝向所述分隔层的表面,且所述纳米模板与所述分隔层相接触,所述纳米柱的尺寸小于所述第一通孔的尺寸,且在所述第一通孔正对的位置至少设有一个所述纳米柱;
在所述纳米模板上层叠设置第二支撑件,挤压所述第一支撑件和/或所述第二支撑件,以使得所述塑形层至少部分自所述第一通孔进入所述分隔层,且与所述第一基层接触,所述纳米柱在所述塑形层上形成第一凹槽,以使所述塑形层形成微纳米复合结构。
2.根据权利要求1所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,所述分隔层的制作步骤,包括:
提供第三支撑件,在所述第三支撑件上层叠设置第一倒模,所述第一倒模包括第二基层和微米柱,所述微米柱形成在所述第二基层朝向所述第三支撑件的表面,且所述微米柱与所述第三支撑件相接触;
在所述第三支撑件和所述第二基层之间填充第一材料,并使所述第一材料包围所述微米柱;
固化所述第一材料,并分离所述第三支撑件和所述第一倒模,从而使所述第一材料形成所述分隔层,且所述分隔层上形成有与所述微米柱互补的所述第一通孔。
3.根据权利要求2所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,所述第一倒模的制作步骤,包括:
提供第一模板,所述第一模板的表面形成有第二凹槽;
在所述第一模板上覆盖第二材料,且所述第二材料填充所述第二凹槽;
固化所述第二材料,并分离所述第一模板,从而使所述第二材料形成所述第一倒模,且所述第一倒模的表面形成有与所述第二凹槽互补的所述微米柱。
4.根据权利要求1所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,所述纳米模板的制作步骤,包括:
提供第二模板,所述第二模板的表面形成有第三凹槽;
在所述第二模板上覆盖第三材料,且所述第三材料至少部分进入所述第三凹槽;
固化所述第三材料,并分离所述第二模板,从而使所述第三材料形成所述纳米模板,且所述纳米模板的表面形成有与所述第三凹槽互补的所述纳米柱。
5.根据权利要求1所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,所述分隔层与所述纳米柱相接触。
6.根据权利要求1所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,所述分隔层与所述第一基层相接触。
7.根据权利要求1所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,所述第一通孔为多个,且相邻两个所述第一通孔之间具有间隔距离,相邻所述纳米柱之间具有间隔距离。
8.根据权利要求7所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,多个所述第一通孔和多个所述纳米柱均呈阵列排布。
9.根据权利要求1所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,所述塑形层为热塑性材料,挤压所述第一支撑件和/或所述第二支撑件过程中,加热所述塑形层,以使所述塑形层软化且具有流动性。
10.根据权利要求1所述的微纳米复合结构的制作方法,其特征在于,所述第一支撑件为硬性材质,所述第二支撑件为软性材质,挤压所述第一支撑件时,所述第二支撑件用于保护所述第一支撑件。
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