[发明专利]一种金属反射镜的制备方法以及金属反射镜

权利要求书

1.一种金属反射镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在衬底层的表面上依次沉积过渡层和金属层，其中，在沉积所述过渡层的过程中通入氩气和氧气，使得所述过渡层的氧含量逐步变化，在沉积所述金属层的过程中通入氧气或者氮气，使得所述金属层的氧含量或者氮含量逐步变化；

在所述金属层上沉积至少一组折射层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括制备所述衬底层，当所述衬底层为玻璃基片时，制备所述衬底层包括通过抛光液以实现对所述玻璃基片的表面抛光以及对所述玻璃基片进行离子束清洗。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述过渡层采用氧化硅制成，沉积所述过渡层包括在所述衬底层上设置硅并在所述过渡层的沉积过程中通入氩气和氧气以形成氧化硅。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，在沉积所述过渡层的过程中通入氩气和氧气包括通过流量阀控制所述氩气和所述氧气之间的流量比例。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述使得所述过渡层的氧含量逐步变化包括使得从所述过渡层中靠近所述衬底层的位置向远离所述衬底层的位置处的氧含量逐步降低。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，沉积所述金属层包括在所述过渡层上设置金属并在所述金属层的沉积过程中通入氧气或者氮气以形成氧化物或者氮化物。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述使得所述金属层的氧含量或者氮含量逐步变化包括使得所述金属层中从靠近所述过渡层的位置到远离所述过渡层的位置的氧含量或者氮含量逐步降低。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，每组所述折射层包括低折射率层和高折射率层，所述低折射率层采用SiOx、Si-SiOx中的至少一种制成，所述高折射率层为ZnOx、NbxOx、TiOx中的至少一种制成。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括在所述金属层上沉积保护层，所述保护层采用镍铬合金或者铬制成。

10.一种金属反射镜，其采用权利要求1-9中任一项的制备方法制成。