[发明专利]一种金属反射镜的制备方法以及金属反射镜

说明书

本公开实施例提供一种金属反射镜的制备方法以及金属反射镜，所述制备方法包括以下步骤：在衬底层的表面上依次沉积过渡层和金属层，其中，在沉积所述过渡层的过程中通入氩气和氧气，使得所述过渡层的氧含量逐步变化，在沉积所述金属层的过程中通入氧气或者氮气，使得所述金属层的氧含量或者氮含量逐步变化；在所述金属层上沉积至少一组折射层。本公开实施例能够实现高性能的反射镜的连续稳定生产，提高核心的金属层与衬底层之间的结合力，降低产品潜在的结构风险，提高生产效率。

技术领域

本公开涉及一种反射装置的技术领域，特别地涉及一种金属反射镜的制备方法以及金属反射镜。

背景技术

背景技术：

金属反射镜广泛应用于复印机，投影仪，太阳能聚光发电等领域，Al是最常用的用于生产反射镜的功能层，由于金属层容易被腐蚀，所以在目前产品实际生产中需要漆膜等保护层，漆膜保护层生产工艺已经不能满足国家对于环保的要求。

后续人们尝试使用介质膜作为保护层，同时增加膜层的反射，工艺生产中一般采用蒸镀等工艺进行，蒸镀由于粒子能量只有0.2ev，所以其膜层的结合力比较差，采用此方法生产出的金属反射镜不能满足所有场合的使用，同时产能小，成本高，同时产品尺寸受限制，并不能很好地满足市场的需求。

立式磁控溅射设备由于其粒子能量平均在十几到几十电子伏特，膜层的结合力和致密性明显优于用蒸镀机生产的产品，同时能实现环保介质层对于污染漆膜保护层的替代，更加符合时代的要求。由于更大的尺寸和更高的生产效率，可以为满足客户需求。

由于Al等金属键的键能明显小于SiO2和Nb2O5的键能，所以金属和氧化物界面处的结合力依然不理想，在生产高性能产品时候，面临产品揭膜测试无法满足需求。为了改善界面结合力，同时不降低产品的反射率，研发人员进行了各种尝试，比如在生长过程中同时进行加热，虽然可以改善结合力，但同时存在膜层雾度增加，膜层散射严重，不能满足客户需求的风险。

发明内容

有鉴于此，本公开实施例提出了一种金属反射镜的制备方法以及金属反射镜，以解决现有技术中存在的问题。

一方面，本公开提供一种金属反射镜的制备方法，其包括以下步骤：在衬底层的表面上依次沉积过渡层和金属层，其中，在沉积所述过渡层的过程中通入氩气和氧气，使得所述过渡层的氧含量逐步变化，在沉积所述金属层的过程中通入氧气或者氮气，使得所述金属层的氧含量或者氮含量逐步变化；在所述金属层上沉积至少一组折射层。

在一些实施例中，还包括制备所述衬底层，当所述衬底层为玻璃基片时，制备所述衬底层包括通过抛光液以实现对所述玻璃基片的表面抛光以及对所述玻璃基片进行离子束清洗。

在一些实施例中，所述过渡层采用氧化硅制成，沉积所述过渡层包括在所述衬底层上设置硅并在所述过渡层的沉积过程中通入氩气和氧气以形成氧化硅。

在一些实施例中，在沉积所述过渡层的过程中通入氩气和氧气包括通过流量阀控制所述氩气和所述氧气之间的流量比例。

在一些实施例中，所述使得所述过渡层的氧含量逐步变化包括使得从所述过渡层中靠近所述衬底层的位置向远离所述衬底层的位置处的氧含量逐步降低。

在一些实施例中，沉积所述金属层包括在所述过渡层上设置金属并在所述金属层的沉积过程中通入氧气或者氮气以形成氧化物或者氮化物。

在一些实施例中，所述使得所述金属层的氧含量或者氮含量逐步变化包括使得所述金属层中从靠近所述过渡层的位置到远离所述过渡层的位置的氧含量或者氮含量逐步降低。

在一些实施例中，每组所述折射层包括低折射率层和高折射率层，所述低折射率层采用SiOx、Si-SiOx中的至少一种制成，所述高折射率层为ZnOx、NbxOx、TiOx中的至少一种制成。