[发明专利]一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法

权利要求书

1.一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法，其特征在于，包括以下步骤：

⑴在基膜上涂布离型层；所述涂布离型层的方法为以下两种方法择一选用：

a.在凹印机上印刷离型剂，通过凹印机在基膜上涂布离型层；

b.往带有烘干通道的涂布机涂布离型剂，通过涂布机在基膜上涂布离型层，并做烘干处理；

⑵往微凹涂布机上涂布热压光学纹理的介质油，通过微凹涂布机在基膜上预涂热压光学纹理介质油；

⑶制作带光学纹理定位点的光学纹理版文件，将制作好的光学纹理版文件输入至光刻机，直写光刻出带有光学纹理定位点的光刻胶版；

⑷利用光刻胶版作为母版，电铸成可以进行光学热压的纹理镍板；

⑸将经步骤⑷处理后的光刻胶版安装在纹理热压机上，将经步骤⑵处理后的基膜放入纹理热压机内进行纹理转移，在机器加热的运行下，将光学纹理转压到了基膜的表面，在基膜表面形成若干个圆周模板；

⑹测量经过上述步骤⑴-步骤⑸处理后的基膜的各圆周模板周长以及相邻两组圆周模板的间距，并以此制作印刷版文件，将制作好的印刷版文件输入至印刷机内；

⑺将经步骤⑸处理后的带光学纹理的基膜放入印刷机内，通过CCD定位电眼完成印刷定位点与光学纹理定位点的对位，将待印刷图案印刷在基膜上；

⑻将经步骤⑺光学纹理转移处理后的基膜放在卷绕式真空镀膜机上进行电镀，在表面形成电镀反光层；

⑼将经步骤⑻处理的基膜进行洗铝，使得热转印非图案的部分转化为透明膜状态；

⑽在完成上述步骤⑴-步骤⑼的基膜的表面涂布胶水层，完成带光学定位的转印膜的制作；所述涂布胶水层的方法为以下两种方法择一选用：

a.在凹印机上印刷转印胶水，通过凹印机在基膜的电镀层上涂布胶水层；

b.往带有烘干通道的涂布机涂布转印胶水，通过涂布机在基膜的电镀层上涂布胶水层，并做烘干处理。

2.根据权利要求1所述的印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法，

其特征在于，所述步骤⑶中，光学纹理的文件制版方法，包括以下步骤：

(3.1)确定光学纹理版的版材尺寸及版口咬口方向，建立页面框；

(3.2)建立页面框，根据各模板的周长与辊轴尺寸在建立页面框，所述页面框的长大于各模板的周长20mm，所述页面框的边大于辊轴尺寸20mm；

(3.3)在页面框内绘制矩形框，所述矩形框的长分别与各模板的周长相等，所述矩形框的边等于轴辊尺寸；

(3.4)在各矩形框内分别导入设定的光学纹理形状，同时在页面框的四角设定光学纹理定位点；

(3.5)完成光学纹理版文件，输入至光刻机内。

3.根据权利要求1所述的印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法，其特征在于，所述步骤⑷中，纹理镍板的电铸方法，包括以下步骤：

(4.1)对光刻胶版表面进行敏化处理；

(4.2)对光刻胶版表面进行化学镀银处理；

(4.3)将光刻胶版放入电铸槽内进行电铸镍处理，当镍层在银层表面达到设定厚度后，从槽液中取出；

(4.4)将镍层从光刻胶版上剥离后，利用氢氧化钠将镍层上的残余感光层洗净后形成纹理镍板。

4.根据权利要求1所述的印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法，其特征在于，进行图案印刷前还可将经步骤⑸处理后的带光学纹理的基膜进行电镀处理，在光学纹理表面电镀有隔离增透层。

5.根据权利要求1所述的印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法，

其特征在于，所述步骤⑹中，印刷版的文件制版方法包括以下步骤：

(6.1)选择待印刷图案；

(6.2)确定印刷版的版材尺寸及版面咬口方向，选定相邻两组图案之间的跳距；

(6.3)根据光学纹理的基膜中各模板的位置及各模板的周长，建立与模板周长等尺寸的矩形框，根据相邻两组模板的间距设定好矩形框之间的跳距；

(6.4)将待印刷图案导入矩形框内，在页面框的四角分别设置有印刷定位点；

(6.5)将待印刷图案与印刷定位点导出至印刷版上，完成印刷版文件的制版。