[发明专利]一种窑变釉陶瓷砖及其制备方法有效
申请号: | 202111547110.6 | 申请日: | 2021-12-16 |
公开(公告)号: | CN114163245B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 邓振伟;曾绍雄;辛大廷;肖咸芬;魏宇婷 | 申请(专利权)人: | 重庆唯美陶瓷有限公司 |
主分类号: | C04B35/622 | 分类号: | C04B35/622;C04B41/89;C03C8/00;C03C8/20 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 李晓凤 |
地址: | 402460*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 釉陶 瓷砖 及其 制备 方法 | ||
本发明提供了一种窑变釉陶瓷砖及其制备方法,窑变釉陶瓷砖的制备方法包括:压制成型陶瓷砖坯体,并干燥;在干燥后的所述陶瓷砖坯体上施加低温色釉,获得低温色釉层;在所述低温色釉层上施加花釉,获得花釉层,并干燥;以烧成温度为1200±20℃,烧成周期为40‑60min,入窑烧制,获得窑变釉陶瓷砖。通过在陶瓷砖坯体上依次施加低温色釉和花釉,在陶瓷砖坯体烧成温度下,低温色釉具备高温粘度小,会很快向上流动,带动上层花釉上下流淌,与低温色釉相互融合反应,使得花釉在烧成过程中,因分相作用会产生两种及以上互不相融颜色各异的斑点,进而避免长时间烧制,最终实现窑变釉陶瓷砖发色简单,且能低温快速烧成。
技术领域
本发明涉及窑变釉技术领域,尤其涉及的是一种窑变釉陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
窑变釉指釉料在高温烧成的过程中,多色组分相互流淌或扩散,出窑后呈现出色彩反差、图案花纹变化莫测、独一无二的釉色效果;窑变釉是一种艺术釉,其具有变化多端、色彩丰富、高贵典雅等优点,目前窑变釉被广泛应用于工艺品瓷器中,在立体空间中通过局部温差,进而在高温下产生从上往下流动以形成纹理。
但是,普通常规窑变产品中发色是难以控制,无法做到随心所欲的生产出所需要色系的产品,且对于陶瓷砖而言,窑内温差较小,气氛较稳定,釉料在平面很难产生流动,很难产生明显的色差及流纹效果;同时,窑变釉的烧成温度高达1300℃左右、烧成周期长达8小时左右,然而目前陶瓷砖的烧成温度为1200℃左右,烧成时间为50-120min;这就使得窑变釉陶瓷砖在烧成过程中,烧成温度需要达到1300℃,陶瓷砖坯体就会处于过烧状态,而且窑变釉的长达8小时的烧成周期,也与陶瓷砖的快速烧成工艺相悖,故难以大面积应用于建筑陶瓷装饰领域。
因此,现有技术存在缺陷与不足,有待进一步改进与发展。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种窑变釉、要变釉陶瓷转及其制备方法,旨在解决现有技术中窑变釉陶瓷砖发色难以控制,以及不能低温快速烧成的问题。
本发明解决技术问题所采用的一技术方案如下:一种窑变釉陶瓷砖的制备方法,其包括:
压制成型陶瓷砖坯体,并干燥;
在干燥后的所述陶瓷砖坯体上施加低温色釉,获得低温色釉层;
在所述低温色釉层上施加花釉,获得花釉层,并干燥;
以烧成温度为1200±20℃,烧成周期为40-60min,入窑烧制,获得窑变釉陶瓷砖。
可以理解,通过在所述陶瓷砖坯体上依次施加低温色釉和花釉,进而在所述陶瓷砖坯体上形成低温色釉层和花釉层,进而在低温环境1200±20℃下,低温色釉具备高温粘度小,在烧成过程中会很快向上流动,进而避免高温烧制,且带动上层花釉上下流淌,与所述低温色釉相互融合反应,使得花釉在烧成过程中,因分相作用会产生两种及以上互不相融颜色各异的斑点,形成颜色丰富、形态各异的斑块纹理,进而避免长时间烧制,最终实现窑变釉陶瓷砖发色简单,且能低温快速烧成,且提升所述窑变釉陶瓷砖的成品质量和良品率,进而使得窑变釉陶瓷砖可以在建筑陶瓷装饰领域大面积应用。
进一步的,所述压制成型陶瓷砖坯体,并干燥,具体包括:
根据坯料配方,按重量比计,坯料:球:水=1:1.2:0.4,进行湿法球磨,得到坯料泥浆,坯料泥浆的水份为30-35%,坯料泥浆的细度为过万孔筛,筛余2-2.5%;
将坯料泥浆经喷雾干燥塔干燥,获得球磨坯料,所述球磨坯料的水份为5.5%-6.5%,所述球磨坯料的容重不小于0.91,所述球磨坯料的细度为过40目筛,筛余为48-58%;
将球磨坯料并压制成型,并经干燥器干燥,获得干燥后的陶瓷砖坯体。
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