[发明专利]一种新型版辊雕刻工艺有效

专利信息
申请号: 202111547224.0 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN114193905B 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 史天勇;崔石磊 申请(专利权)人: 广东上运激光科技有限公司
主分类号: B41C1/02 分类号: B41C1/02
代理公司: 广东科言知识产权代理事务所(普通合伙) 44671 代理人: 卢春华
地址: 529000 广东省江*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 雕刻 工艺
【权利要求书】:

1.一种新型版辊雕刻工艺,其特征在于,包括以下步骤:

获取待雕刻的版辊主体;

通过激光雕刻的方式,根据预设的网点拼版图,在版辊主体的外壁雕刻阴网点;

所述阴网点是由若干个网墙均匀排列组成,且相邻网墙之间构成用于负载油墨的网孔,所述网墙采用矩阵方式排列,所述网孔呈正方形结构;

所述网墙为圆柱形结构或者圆台型结构;

预先设置雕刻斜线角度、脉冲长度、FOC矢量控制参数,在版辊主体的外壁雕刻出阴网点的正向雕刻部分;

所述雕刻斜线角度为45°~135°,所述脉冲长度为20ms~50ms,所述FOC矢量控制参数为9.2~10.5;

设置LAC参数与DC参数,将阴网点的负向雕刻部分雕刻出来;

所述LAC参数为3,所述DC参数10~13;

通过对雕刻机的激光射出角度的调整,调整阴网点底部的光滑程度,所述激光射出角度为16.1°~21.9°;

对雕刻处理之后的版辊主体的版面使用金刚石抛光带进行抛光处理;

对抛光处理之后的版辊主体使用清洗机清洗干净。

2.根据权利要求1所述的一种新型版辊雕刻工艺,其特征在于:所述网孔的深度范围为2.1至2.8丝。

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