[发明专利]运料机构、清洗系统和片材的转运方法在审
申请号: | 202111551430.9 | 申请日: | 2021-12-17 |
公开(公告)号: | CN114300385A | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 许峯嘉;徐柏翔;蔡嘉雄 | 申请(专利权)人: | 创微微电子(常州)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 王丹玉;汪海屏 |
地址: | 213133 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 机构 清洗 系统 转运 方法 | ||
1.一种运料机构,其特征在于,所述运料机构包括:
至少一个存储装置,位于第一工位,所述存储装置用于存放片材;
中转装置,位于第二工位,所述中转装置用于在所述存储装置中取放所述片材;
翻转装置,位于第三工位,所述翻转装置一方面用于承接所述中转装置中的片材,或转运所述片材至所述中转装置中,另一方面用于调整所述片材的放置方向;
其中,所述第一工位、所述第二工位、所述第三工位依次设置。
2.根据权利要求1所述的运料机构,其特征在于,所述存储装置包括:
多个储位,所述多个储位用于放置所述片材;
调整组件,设于储位内,用于调整所述片材的放置角度。
3.根据权利要求1所述的运料机构,其特征在于,所述中转装置包括:
载片组件,用于承载所述片材;
升降组件,与所述载片组件连接,用于带动所述载片组件沿竖直方向运动;
横移组件,与所述载片组件连接,用于带动所述载片组件沿水平方向运动;
其中,所述载片组件在所述升降组件和/或横移组件的带动下,在所述存储装置和所述翻转装置之间传送所述片材。
4.根据权利要求3所述的运料机构,其特征在于,所述中转装置还包括:
旋转组件,与所述载片组件连接,用于带动所述载片组件旋转预设角度,以便转移所述片材;
所述载片组件还包括:
至少一个载片部;
滑动部,与所述载片部连接,用于带动所述载片部移动,以便载片部承接所述片材。
5.根据权利要求4所述的运料机构,其特征在于,
所述载片部的材质为陶瓷。
6.根据权利要求1所述的运料机构,其特征在于,所述翻转装置包括:
翻转组件,包括机架和第一夹具,所述第一夹具可转动设置于所述机架;
承接组件,靠近所述翻转组件设置,所述第一夹具用于在所述承接组件上取放所述片材。
7.根据权利要求1所述的运料机构,其特征在于,所述运料机构包括:
进出料装置,设于所述第二工位;
所述进出料装置用于为所述中转装置提供所述片材,或所述进出料装置用于承接所述中转装置转运的所述片材;
所述中转装置还用于在所述进出料装置和所述存储装置之间、所述进出料装置和所述翻转装置之间传送所述片材。
8.一种清洗系统,其特征在于,所述清洗系统包括:
清洗设备;
至少一个如权利要求1至7中任一项所述的运料机构,所述运料机构至少设置在所述清洗设备的一端。
9.根据权利要求8所述的清洗系统,其特征在于,
所述清洗设备包括上料端和下料端;
所述运料机构为两个,一个所述运料机构设置在所述上料端,用于向所述清洗设备提供待清洗的所述片材,另一所述运料机构设置在所述下料端,用于将清洗后的所述片材运离所述清洗设备;
其中,位于所述上料端的所述第一工位、所述第二工位、所述第三工位依次设置的方向与位于所述下料端的所述第一工位、所述第二工位、所述第三工位依次设置的方向相反。
10.一种片材的转运方法,其特征在于,
将片材放置到进出料装置上;
中转装置从所述进出料装置获取所述片材,并将片材放置到翻转装置和存储装置,至所述翻转装置和所述存储装置中装满片材;
所述翻转装置承接所述片材,并对所述片材的放置角度进行翻转和/或片材的翻面;
清洗设备上的搬运装置将所述翻转装置中的所述片材搬运至所述清洗设备的清洗槽内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造