[发明专利]纳米钯片负载妥珠单抗的纳米复合体、制备方法及其在制备治疗炎症相关性贫血药物的应用在审

专利信息
申请号: 202111558365.2 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN114377126A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 朱建强;付青峰;柳乐意;郑志文 申请(专利权)人: 天津市泌尿外科研究所
主分类号: A61K39/395 分类号: A61K39/395;A61K47/02;A61K47/10;A61P29/00;A61P7/06;B82Y5/00;B82Y40/00
代理公司: 天津市宗欣专利商标代理有限公司 12103 代理人: 董光仁
地址: 300211*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 纳米 负载 妥珠单抗 复合体 制备 方法 及其 治疗 炎症 相关 性贫血 药物 应用
【说明书】:

发明公开了一种纳米钯片负载妥珠单抗的纳米复合体、制备方法及其在制备治疗炎症相关性贫血药物的应用。本发明通过表面修饰PdPL的方式提高其对TCZ的装载能力,由此构建得到PdPL‑PEG@TCZ纳米复合体。PdPL‑PEG@TCZ纳米复合体利用PdPL对肝脏组织被动靶向的特性,将TCZ高效的运输并富集在肝脏组织中,阻断肝脏细胞IL‑6/IL‑6R/JAK2/STAT3/Hepcidin信号通路,从而有效改善小鼠模型的贫血程度,同时可以减少TCZ在其它组织中的分布而诱发的副作用。本发明的PdPL‑PEG@TCZ纳米复合体为治疗AI提供了一种新的手段。

技术领域

本发明涉及生物技术领域,特别涉及一种纳米钯片负载妥珠单抗的纳米复合体、制备方法及其在制备治疗炎症相关性贫血药物的应用。

背景技术

炎症相关性贫血(Anemia of inflammation,AI)的发病率位居全球贫血发病率的第二位。AI在感染性疾病、自身免疫性疾病、慢性肾病、充血性心力衰竭和癌症患者群体中普遍存在,该类疾病患者通常伴随免疫系统的异常激活。AI可对患者多个组织器官的生理机能产生不利影响,特别是对于正在接受化疗和(或)放疗的患者,AI可能加速其肿瘤进程。同时,有研究表明在老年患者(60岁)群体中,AI的存在可显著降低患者的生活质量和生存率。然而,目前用于AI治疗的方法都具有局限性,治疗效果不够理想。因此,寻找有效治疗AI的方法是一个亟需攻克的科学问题。

研究表明,AI的发生与肝脏细胞分泌铁调素(Hepcidin)水平失调密切相关,而白细胞介素-6(Interleukin-6,IL-6)是AI患者中诱导肝脏细胞合成分泌Hepcidin的主要驱动因子,IL-6可通过Janus激酶2/信号转导和转录激活因子3(Janus kinase 2/signaltransducer and activator of transcription 3,JAK2/STAT3)信号通路促进肝脏细胞产生Hepcidin来抑制生物体内铁转运蛋白活性,从而减弱十二指肠上皮细胞对食物中铁的吸收,抑制巨噬细胞、肝脏和脾脏等铁储库内铁的释放,继而导致血清中的有效生物铁浓度降低,影响血红蛋白及红细胞的生成,最终导致贫血的发生。妥珠单抗(Tocilizumab,TCZ)是一种IL-6受体(Interleukin-6Receptor,IL-6R)单克隆抗体,因其可有效阻断IL-6/IL-6R/JAK2/STAT3/Hepcidin级联信号转导通路而被应用于类风湿性关节炎、系统性红斑狼疮等免疫相关性疾病的临床治疗中。但是,TCZ经血液进入体内后会分布至全身组织器官,降低了靶器官肝脏组织中的有效药物浓度,同时也会诱发全身其它组织器官的副作用。因此,需要寻求一种有效的方法提高TCZ在肝脏组织中的靶向富集浓度,以此来提高其治疗AI的效果,降低药物的副作用。

发明内容

本发明为了解决上述技术问题,提供了一种纳米钯片负载妥珠单抗的纳米复合体、制备方法及其在制备治疗炎症相关性贫血药物的应用。

第一方面,本发明提供了一种纳米钯片负载妥珠单抗的纳米复合体的制备方法,是采用以下技术方案实现的。

一种纳米钯片负载妥珠单抗的纳米复合体的制备方法,包括以下步骤:

S1.将纳米钯片与巯基丙酸混合,孵育3-3.5小时,巯基丙酸的加入量为200-300μL/mg纳米钯片;离心并洗涤沉淀后,将沉淀再次分散,然后加入1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺和N-羟基丁二酰亚胺,孵育1-1.5小时,1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺、N-羟基丁二酰亚胺和巯基丙酸的体积比为(2-3):(2-3):8;再加入NH2-PEG并孵育3-3.5小时,NH2-PEG与纳米钯片的质量比为(4-6):3;将离心得到的沉淀进行超滤、洗涤并重新分散得到PEG修饰的纳米钯片;

S2.将步骤S1得到的PEG修饰的纳米钯片与妥珠单抗混合,孵育过夜,PEG修饰的纳米钯片与妥珠单抗的质量比为(1-2):1;离心、洗涤并重悬沉淀,得到纳米钯片负载妥珠单抗的纳米复合体。

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