[发明专利]一种避免基板底面污染的单侧湿法系统

说明书

本发明公开了本发明的技术方案为采用一种避免基板底面污染的单侧湿法系统，包括：支撑传输机构；吸附机构；传动交握机构；淋洗机构；风干机构。具有上述结构的单侧湿法系统，有效的解决了背部芯片的保护，有效的隔绝了与药液的接触问题，可重点应运用于单侧湿法(如腐蚀、掺杂、反应)工艺的芯片。各个功能部分单独存在，各组件联动协作，有很大的应用拓展能力，同时机构的占用空间更加小。本系统不仅可用于湿法淋洗工艺、还可用于腐蚀工艺、掺杂工艺、单侧清洗工艺及其反应工艺等。

技术领域

本发明涉及一种对太阳能电池进行单侧湿法处理的系统。

背景技术

在科学和工程的许多领域，用刻蚀和其他微加工技术来制造小型化的微结构已经变得越来越普遍。半导体材料不仅能用来制造分立和集成的电子电路，而且也能用来制造传感器、执行器以及一些由于所使用的材料和尺度的微型化而具有了新特性的其它器件。在太阳能电池基板件加工过程中，常常需要利用各向异性湿法腐蚀去除大量的硅以形成不同形貌的空腔、沟槽、桥式结构等微结构。如果将腐蚀限定在基板单侧进行，则需要对基板的另一侧面进行长时间有效保护，避免腐蚀液钻入导致另一侧结构的破坏，而现有的单侧湿法系统无法有效做到背部的保护，多有回流、污染底部产生。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种避免基板底面污染的单侧湿法系统，在对基板进行单侧湿法处理的时候能够有效避免基板底面被药液污染。

为解决以上技术问题，本发明的技术方案为采用一种避免基板底面污染的单侧湿法系统，包括：支撑传输机构，用于输送基板；吸附机构，用于吸附基板并遮蔽基板底面，防止基板底面被药液腐蚀；传动交握机构，用于将基板在支撑传输机构和吸附机构之间传递；淋洗机构，用于喷洒药液对基板进行冲洗；风干机构，用于对冲洗后的基板进行风干。本发明的原理为在进行冲洗时通过真空吸附作用将基板吸附在台面上，使得其底部被台面遮蔽，避免药液腐蚀。

作为一种改进，所述吸附机构包括底板以及底板上方铺设的真空吸附台；所述真空吸附台上开有若干与真空发生装置连接的抽气孔；还包括若干用于基板升降的升降杆，所述升降杆贯穿底板和真空吸附台，并可延伸出真空吸附台顶面。

作为一种进一步的改进，所述底板上位于真空吸附台四周镶嵌有密封圈。

作为一种进一步的改进，所述底板上位于真空吸附台下方设置有加热装置。

作为另一种更进一步的改进，所述传动交握机构包括布置在吸附机构上方的左右水平设置的支撑杆，所述支撑杆相互平行并且沿支撑传输机构的传输方向设置；所述支撑杆上并排设置有若干传输辊，所述传输辊的传输方向与支撑传输机构的传输方向一致；还包括驱动支撑杆绕其轴心自转的驱动装置。

作为一种改进，所述支撑杆可带动传输辊在水平位置和竖直向下位置之间切换。

作为一种改进，所述淋洗机构包括横跨于吸附机构上方的喷淋管，所述喷淋管上安装有若干喷头；所述风干机构为风刀。

作为一种改进，所述吸附机构两侧沿支撑传输机构传输方向布置的滑动支撑杆，所述滑动支撑杆上设置有可沿其前后滑动的升降支撑杆，所述喷淋管和风刀的两端固定在升降支撑杆上。

作为一种改进，所述支撑传输机构为两段，分别布置在吸附机构的前后端。

作为一种改进，所述支撑传输机构由若干输送辊组成，所述输送辊的输送平面高度与传动交握机构的输送平面高度一致。

本发明的有益之处在于：具有上述结构的单侧湿法系统，有效的解决了背部芯片的保护，有效的隔绝了与药液的接触问题，可重点应运用于单侧湿法(如腐蚀、掺杂、反应)工艺的芯片。各个功能部分单独存在，各组件联动协作，有很大的应用拓展能力，同时机构的占用空间更加小。本系统不仅可用于湿法淋洗工艺、还可用于腐蚀工艺、掺杂工艺、单侧清洗工艺及其反应工艺等。

附图说明

图1为本发明的正视图。