[发明专利]一种新型的声表面波滤波器结构及其制备方法

权利要求书

1.一种声表面波滤波器，其特征在于，声表面波滤波的芯片上包括周期性排列的多个插指电极和反射栅，其中，每个插指电极和反射栅在厚度方向上包括阶梯状的多层，每层之间按照预设尺寸存在偏差。

2.根据权利要求1所述的声表面波滤波器，其特征在于，每个插指电极和反射栅在厚度方向上包括阶梯状的两层。

3.一种声表面波滤波器的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：

利用双光子聚合工艺分别制备镂空型的第一掩膜版和第二掩膜版，其中，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版均包括镂空型的多个插指电极和反射栅；

将所述第一掩膜版置于压电晶体表面进行对版并镀膜得到初始的插指电极和反射栅；

按照预设的阶梯电极偏差尺寸将所述第二掩膜版与第一掩模版进行对版然后进行二次镀膜，得到周期性排列的在厚度方向上具有多个阶梯层的插指电极和反射栅。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，包括：

按照预设的排列周期将光刻胶粘置于载物台表面；

利用激光入射入光刻胶使得所述激光与所述光刻胶产生双光子聚合效应产生微小光斑以对所述光刻胶进行光固化得到具有镂空型的周期性的插指电极和反射栅的第一掩模版和第二掩模版；

通过丙酮对固化后的镂空基底进行剥离得到第一掩膜版和第二掩膜版，其中，第一掩模版和第二掩膜版的厚度为10-200um。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，

将多片预设尺寸的光刻胶按照预设的排列周期置于载物台表面，将激光通过载物片入射入光刻胶，产生光斑，以使得光斑对光刻胶进行固化得到多个镂空型的周期性插指电极和反射栅结构。

6.根据权利要求1的制备方法，其特征在于，第一掩模版的镀膜厚度为100～200nm，套刻镀膜的第二掩模版的厚度在10-200nm。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，包括：所述第一掩膜版和所述第二掩膜版镂空型的周期性排列的多个插指电极的宽度和缝宽为0.1～10um。

8.根据权利要求1或6所述的制备方法，其特征在于，反射栅至少为50对。

9.根据权利要求1或3所述的制备方法，其特征在于，所述镀膜的基底为铌酸锂、碳酸锂、氮化铝、氧化锌等其中的一种。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，压电基底的厚度为30～500um，载物片的厚度为100～170um。