[发明专利]基板清洗装置及基板的清洗方法在审
| 申请号： | 202111590195.6 | 申请日： | 2021-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN114682547A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 及川文利;深谷孝一;马场枝里奈;末政秀一;中野央二郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 张丽颖 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 | ||
1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
旋转机构，该旋转机构使基板旋转；
清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出施加了超声波振动的清洗液；以及
摆动机构，该摆动机构使所述清洗液供给喷嘴从所述基板的旋转中心附近朝向所述基板的外周端在比所述基板的半面窄的范围内摆动。
2.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
旋转机构，该旋转机构使基板旋转；
清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出施加了超声波振动的清洗液；
辊型清洗部件，该辊型清洗部件通过在穿过所述基板的旋转中心的位置与所述基板的表面接触并旋转，从而对所述基板进行清洗；以及
摆动机构，该摆动机构在所述辊型清洗部件对所述基板进行清洗的过程中，使所述清洗液供给喷嘴在比所述基板的半面窄的范围内摆动。
3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
所述清洗液供给喷嘴向远离所述基板的旋转中心的方向喷出所述清洗液。
4.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
所述清洗液是碱性水溶液或者阴离子表面活性剂。
5.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
具备第二清洗液供给喷嘴，该第二清洗液供给喷嘴设置于离开所述清洗液供给喷嘴的摆动范围的位置，并且向所述基板的表面喷出清洗液。
6.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
所述摆动机构在所述基板的旋转中心附近和所述基板的外周端的至少一方，进行使所述清洗液供给喷嘴的摆动减速和暂停的至少一方。
7.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
具备倾动机构，该倾动机构进行在所述基板的旋转中心附近使所述清洗液供给喷嘴朝向所述基板的旋转中心倾动和在所述基板的外周端附近使所述清洗液供给喷嘴朝向所述基板的外周端倾动的至少一方。
8.一种基板的清洗方法，其特征在于，
使基板旋转，
从清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出施加了超声波振动的清洗液，
使所述清洗液供给喷嘴从所述基板的旋转中心附近朝向所述基板的外周端，在比所述基板的半面窄的范围内摆动。
9.一种基板的清洗方法，其特征在于，
使基板旋转，
从清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出施加了超声波振动的清洗液，
通过使配置于穿过所述基板的旋转中心的位置的辊型清洗部件与所述基板的表面接触并旋转，从而对所述基板进行清洗，
在所述辊型清洗部件对所述基板进行清洗的过程中，使所述清洗液供给喷嘴在比所述基板的半面窄的范围内摆动。
10.根据权利要求8或9所述的基板的清洗方法，其特征在于，
使所述清洗液供给喷嘴向远离所述基板的旋转中心的方向喷出所述清洗液。
11.根据权利要求8或9所述的基板的清洗方法，其特征在于，
所述清洗液是碱性水溶液或者阴离子表面活性剂。
12.根据权利要求8或9所述的基板的清洗方法，其特征在于，
在离开所述清洗液供给喷嘴的摆动范围的位置设置第二清洗液供给喷嘴，使该第二清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出清洗液。
13.根据权利要求8或9所述的基板的清洗方法，其特征在于，
在所述基板的旋转中心附近和所述基板的外周端的至少一方，进行使所述清洗液供给喷嘴的摆动减速和暂停的至少一方。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社荏原制作所，未经株式会社荏原制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111590195.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：触摸显示装置及其驱动方法
- 下一篇：白色有机发光装置及使用其的显示装置
