[发明专利]一种改善掩模版清洗效果的装置及方法

权利要求书

1.一种改善掩模版清洗效果的方法，其特征在于：包括

1）将金属板水平置于掩膜版的掩膜版网上端，在金属板的下端面贴有粘尘垫；

2）直流电源的正负电极分别连接金属板与掩膜版，并向金属板和掩膜版上通异种电荷，此时金属板和掩膜版组成平行板电容器，二者之间形成静电场，掩膜版表面的微粒会带和掩膜版同种电荷，此时微粒受电场力作用背离掩膜版而趋向粘尘垫，并被粘尘垫粘合；

3）对于掩膜版下端面无法穿过掩膜版网的微粒，将金属板置于掩膜版下端再通电吸附即可。

2.如权利要求1所述的改善掩模版清洗效果的方法，其特征在于：金属板与掩膜版通电后，在金属板背面通负压空气，用以弥补静电场力的不足，增强对微粒的吸引力。

3.如权利要求2所述的改善掩模版清洗效果的方法，其特征在于：在金属板和粘尘垫上均开若干个孔，粘尘垫上的每个孔与金属板上对应位置的每个孔同轴贯通，所述孔用于负压吸附。

4.一种改善掩模版清洗效果的装置，其特征在于：包括金属板（1）、粘尘垫（2）、掩膜版（3）和直流电源，所述金属板（1）置于掩膜版（3）的上方或下方，且与掩膜版（3）相互平行，在金属板（1）相对的端面上固定有粘尘垫（2），直流电源的两个电极分别连接在金属板（1）和掩膜版（3）上，并使金属板（1）与掩膜版（3）之间形成静电场。

5.如权利要求4所述的改善掩模版清洗效果的装置，其特征在于：所述金属板和粘尘垫上均开若干个孔（4），粘尘垫上的每个孔与金属板上对应位置的每个孔同轴贯通，在金属板（1）的背面通有负压空气。