[发明专利]一种改善掩模版清洗效果的装置及方法

说明书

本发明公开了一种改善掩模版清洗效果的装置及方法，通过在掩膜版网表面区域产生静电场，并且particle所受电场力背离掩膜版网的手段或方案，达到了利用电场力去除掩膜版网表面particle的效果，金属板和粘尘垫开通孔，并添加负压空气，可将脱落的Particle吸走，也可以弥补静电场力的不足，增强对Particle的吸引力。整个结构可以有效减少particle的残余量，保证后续Mask对基板的蒸镀效果。

技术领域：

本发明涉及一种改善掩模版清洗效果的装置及方法。

背景技术：

掩膜版（Mask）在蒸镀过程中起着非常重要的作用。蒸镀完毕的Mask上面有机物居多，清洁Mask上残留有机物多用有机溶剂NMP（N-甲基吡咯烷酮）配合超声波振动清洗。这种清洗方式可将大部分蒸镀材料清洗掉，但是，有些微粒（particle），例如：纤维、金属碎屑等，由于很难溶解于Mask Cleaner中的有机溶剂，导致此类微粒难以被清洗掉，会残留在Mask上面，影响后续Mask对基板的蒸镀效果。

发明内容：

本发明是为了解决上述现有技术存在的问题而提供一种改善掩模版清洗效果的装置及方法。

本发明所采用的技术方案有：

一种改善掩模版清洗效果的方法，包括

1）将金属板水平置于掩膜版的掩膜版网上端，在金属板的下端面贴有粘尘垫；

2）直流电源的正负电极分别连接金属板与掩膜版，并向金属板和掩膜版上通异种电荷，此时金属板和掩膜版组成平行板电容器，二者之间形成静电场，掩膜版表面的微粒会带和掩膜版同种电荷，此时微粒受电场力作用背离掩膜版而趋向粘尘垫，并被粘尘垫粘合；

3）对于掩膜版下端面无法穿过掩膜版网的微粒，将金属板置于掩膜版下端再通电吸附即可。

进一步地，金属板与掩膜版通电后，在金属板背面通负压空气，用以弥补静电场力的不足，增强对微粒的吸引力。

进一步地，在金属板和粘尘垫上均开若干个孔，粘尘垫上的每个孔与金属板上对应位置的每个孔同轴贯通，所述孔用于负压吸附。

本发明还公开了一种改善掩模版清洗效果的装置，包括金属板、粘尘垫、掩膜版和直流电源，所述金属板置于掩膜版的上方或下方，且与掩膜版相互平行，在金属板相对的端面上固定有粘尘垫，直流电源的两个电极分别连接在金属板和掩膜版上，并使金属板与掩膜版之间形成静电场。

进一步地，所述金属板和粘尘垫上均开若干个孔，粘尘垫上的每个孔与金属板上对应位置的每个孔同轴贯通，在金属板的背面通有负压空气。

本发明具有如下有益效果：

通过在掩膜版网表面区域产生静电场，并且particle所受电场力背离掩膜版网的手段或方案，达到了利用电场力去除掩膜版网表面particle的效果，金属板和粘尘垫开通孔，并添加负压空气，可将脱落的Particle吸走，也可以弥补静电场力的不足，增强对Particle的吸引力。整个结构可以有效减少particle的残余量，保证后续Mask对基板的蒸镀效果。

附图说明：

图 1 为本发明结构图。

具体实施方式：

下面结合附图对本发明作进一步的说明。

如图1所示，本发明一种改善掩模版清洗效果的装置，包括金属板1、粘尘垫2、掩膜版3和直流电源，金属板1置于掩膜版3的上方或下方，且与掩膜版3相互平行，在金属板1相对的端面上固定有粘尘垫2，直流电源的两个电极分别连接在金属板1和掩膜版3上，并使金属板1与掩膜版3之间形成静电场。

金属板和粘尘垫上均开若干个孔4，粘尘垫上的每个孔与金属板上对应位置的每个孔同轴贯通，在金属板1的背面通有负压空气。