[发明专利]一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置

权利要求书

1.一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括调节装置，调节装置用于调整靶材沿源阳极管的中心线方向进行移动。

2.根据权利要求1所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，所述的靶材装置包括沿源阳极管的中心线布置的支撑杆，靶材安装在支撑杆上，所述的调节机构用于调节支撑杆沿其身长方向进行移动。

3.根据权利要求2所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，靶材装置还包括升降支座，支撑杆安装在升降支座上，调节装置与升降支座相连接。

4.根据权利要求3所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，支撑杆的中部转动安装在升降支座上，支撑杆的下端与调节其进行转动的转动调节机构相连接。

5.根据权利要求3所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，调节装置采用丝杆螺母调节的方式调整升降支座进行升降。

6.根据权利要求5所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，升降支座的中部设置有用于安装支撑杆的轴承组件，升降支座的边部与源底座上设置的导向杆构成滑动导向配合，升降支座上设置有螺母件，调节装置包括螺纹杆，螺纹杆转动安装在源底座上且平行于支撑杆布置，螺纹杆和螺母件组成丝杆螺母调节机构，螺纹杆通过传动组件与升降调节电机相连接。

7.根据权利要求6所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，源底座包括上安装部和下安装部，上、下安装部通过导向杆进行连接，升降支座位于上、下安装部之间。

8.根据权利要求7所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，螺纹杆的下端设置有A1带轮，升降调节电机安装在下安装部上，升降调节电机输出轴上设置有A2带轮，A1、A2带轮通过A传动带传动连接。

9.根据权利要求4所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，转动调节机构包括支撑杆下端设置的B1带轮和下安装部上安装的转动调节电机，B1带轮转动安装在下安装部上，支撑杆和B1带轮同步转动且两者沿支撑杆的身长方向滑动配合，转动调节电机的输出轴上设置有B2带轮，B1、B2带轮通过B传动带传动连接。

10.根据权利要求6所述的用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，升降支座移动路径的旁侧设置有对其状态进行检测的传感器，传感器安装在源底座上设置的传感器支架上。