[发明专利]一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置

说明书

本发明涉及一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括调节装置，调节装置用于调整靶材沿源阳极管的中心线方向进行移动。本发明提供的上述技术方案，可以使用长度加长后的靶材，可延长靶材供给镀膜的时间11倍左右，减少了靶材更换频率，节省时间。并且通过调节装置的调整，使靶材的离化面一直处于有利有效的工作位置，保证靶材离化的均匀。

技术领域

本发明涉及离子真空镀膜生产领域，具体涉及一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置。

背景技术

离子真空镀膜是一种新型表面处理技术，其工作特点是由特殊电子“激发碰撞”靶材表面，将靶材表面离化产生离子，以特定方式经离子镀膜源装置“引导”进入腔室并以特殊方式沉积在工件表面与工件表面结合形成膜层称之为离子真空镀膜。较之普通真空镀膜，离子真空镀膜的镀层附着性能更好，离子镀的粒子更能深入穿透工件表面，形成注入工件很深的扩散层，使膜层与工件表面的结合力更强、更致密，更加持久耐磨，沉积的速率更快，使用的适应范围更广泛。

离子镀膜源是离子真空镀膜设备的重要组成部件，源底座是离子镀膜源不可缺少的一部分，用于支撑夹装靶材，目前离子真空镀膜设备上的源底座都是采用固定式，亦即靶材装置是整体固定在源底座内，因此能够允许的镀膜靶材长度只有30MM，使得连续镀膜时间为8小时。并且靶材表面因离化敲击的作用，会使靶材表面产生凹陷不平，影响离子真空镀膜的膜层均匀性。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其方案如下：

一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，其特征在于，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括调节装置，调节装置用于调整靶材沿源阳极管的中心线方向进行移动。

具体的操作为：所述的靶材装置包括沿源阳极管的中心线布置的支撑杆，靶材安装在支撑杆上，所述的调节机构用于调节支撑杆沿其身长方向进行移动。

靶材装置还包括升降支座，支撑杆安装在升降支座上，调节装置与升降支座相连接。

支撑杆的中部转动安装在升降支座上，支撑杆的下端与调节其进行转动的转动调节机构相连接。

调节装置采用丝杆螺母调节的方式调整升降支座进行升降。

升降支座的中部设置有用于安装支撑杆的轴承组件，升降支座的边部与源底座上设置的导向杆构成滑动导向配合，升降支座上设置有螺母件，调节装置包括螺纹杆，螺纹杆转动安装在源底座上且平行于支撑杆布置，螺纹杆和螺母件组成丝杆螺母调节机构，螺纹杆通过传动组件与升降调节电机相连接。

源底座包括上安装部和下安装部，上、下安装部通过导向杆进行连接，升降支座位于上、下安装部之间。

螺纹杆的下端设置有A1带轮，升降调节电机安装在下安装部上，升降调节电机输出轴上设置有A2带轮，A1、A2带轮通过A传动带传动连接。

转动调节机构包括支撑杆下端设置的B1带轮和下安装部上安装的转动调节电机，B1带轮转动安装在下安装部上，支撑杆和B1带轮同步转动且两者沿支撑杆的身长方向滑动配合，转动调节电机的输出轴上设置有B2带轮，B1、B2带轮通过B传动带传动连接。

升降支座移动路径的旁侧设置有对其状态进行检测的传感器，传感器安装在源底座上设置的传感器支架上。

本发明提供的上述技术方案，可以使用长度加长后的靶材，可延长靶材供给镀膜的时间11倍左右，减少了靶材更换频率，节省时间。并且通过调节装置的调整，使靶材的离化面一直处于有利有效的工作位置，保证靶材离化的均匀。