[发明专利]一种金属薄膜表面白点改善的方法

说明书

本发明涉及光学元件领域，具体涉及一种金属薄膜表面白点改善的方法，包括：采用无水乙醇、乙醚和碳酸钙对基底进行清理；用等离子体辅助PVD方法在基底上依次沉积Cr粘接层和Cu反射层；在Cu反射层上沉积SiO2保护层。首先通过沉积一层粘接层，增加基底和Cu或者Al膜的结合力，在沉积Cu或者Al膜采用离子源轰击，使该金属膜层的凸起变平，使其表面质量更好，有效减少白点的数量，提高其反射率。再在金属膜外镀一层氧化物硬质保护膜，增加了反射膜的硬度，保证其通过环境试验。

技术领域

本发明涉及光学元件领域，尤其涉及一种金属薄膜表面白点改善的方法。

背景技术

金属薄膜由于其在可见区到红外区的高反射率，对于光学仪器的反射镜来说，单纯的金属膜已能满足常用要求。但是在某些应用中，要求反射镜的反射率极高，表面的面型包括PV和RMS极小，同时要求多种恶劣的环境试验要求，此时为满足要求，需要在金属膜的表面增加保护膜。这就要求金属膜及其保护膜的表面平整，结合力和牢固度高，可以承受国军标的要求。

常规的采用PVD蒸发的Al膜和Cu膜的表面在显微镜下观察有许多白点，这些白点降低了其反射率，同时也影响整个膜系的反射率。因此导致其表面质量变差，牢固度变差，影响在国军标中的盐雾试验、湿热试验等环境试验的通过。

发明内容

本发明的目的在于提供一种金属薄膜表面白点改善的方法，旨在解决现有金属膜表面白点过多降低反射率的问题。

为实现上述目的，本发明提供了一种金属薄膜表面白点改善的方法，包括采用无水乙醇、乙醚和碳酸钙对基底进行清理；

用等离子体辅助PVD方法在基底上依次沉积Cr粘接层和Cu反射层；

在Cu反射层上沉积SiO2保护层。

其中，所述采用无水乙醇、乙醚和碳酸钙对基底进行清理的具体步骤是：

用1：3的无水乙醇和乙醚的混合液蘸碳酸钙擦拭基底；

对基底的清洁度进行检测。

其中，所述基底的材料包括玻璃和蓝宝石。

其中，所述用等离子体辅助PVD方法在基底上依次沉积Cr粘接层和Cu反射层的具体步骤是：

把基底放入真空室后，真空室本底真空度抽至1×10-3pa，烘烤温度150°，恒温时间40min，等离子体源为考夫曼离子源；

在基底上沉积Cr粘接层；

在Cr粘接层上沉积Cu或者Al反射层；

停止晶控，离子源继续轰击金属膜表面10-20min。

其中，所述停止晶控，离子源继续轰击金属膜表面10-20min的工艺条件为：离子源的屏极电压为400V，加速电压为70V，离子束流为200mA，所用的气体为Ar。

其中，所述Cr粘接层的厚度为50nm，所述Cu或者Al反射层的厚度为150～250nm。

其中，所述SiO2保护层的厚度为90nm。

本发明的一种金属薄膜表面白点改善的方法，包括：采用无水乙醇、乙醚和碳酸钙对基底进行清理；用等离子体辅助PVD方法在基底上依次沉积Cr粘接层和Cu反射层；在Cu反射层上沉积SiO2保护层。采用上述步骤得到的金属膜保护层的膜系反射率要高于现有产品，并且通过等离子体辅助沉积的方式改善了整个膜系的表面质量，大大减少了膜层中的白点现象，并且3、改善了整个膜系的面型，使得表面的PV和RMS减小。另外还提高了膜层的牢固度和结合力，在国军标的盐雾试验、湿热试验后，表面无肉眼可见的损伤，膜系的反射率不变。

附图说明