[发明专利]一种玻璃连续ITO镀膜设备

权利要求书

1.一种玻璃连续ITO镀膜设备，包括连续型镀膜舱(1)，其特征在于：所述连续型镀膜舱(1)中部设置有镀膜室(2)，所述连续型镀膜舱(1)两侧的舱室沿镀膜室(2)左右两侧呈对称式排布，所述连续型镀膜舱(1)两端均开设有内外相通的基片装取门槽(3)，两侧的所述基片装取门槽(3)内均固定安装有真空过渡舱(4)，所述连续型镀膜舱(1)内部设置有若干输送链轮(5)，若干所述输送链轮(5)上设置有首尾相连且穿过两侧真空过渡舱(4)的链条输送带(6)与基片架(7)，所述链条输送带(6)及基片架(7)在输送链轮(5)的转动下在连续型镀膜舱(1)内作往复循环移动；

两侧的所述真空过渡舱(4)侧边从内至外分别开设有贯通的基片架配合槽(8)以及气动启闭挡板插入槽(12)，所述基片架(7)通过穿设入基片架配合槽(8)的链条输送带(6)进出真空过渡舱(4)，所述基片架(7)进入真空过渡舱(4)后将两侧的基片架配合槽(8)进行封堵，两侧的所述连续型镀膜舱(1)侧边还开设有气动板活动槽(9)，所述气动板活动槽(9)内均固定安装有气动推杆(10)，所述气动推杆(10)的伸缩臂上均固定连接有密封启闭挡板(11)，两侧的所述密封启闭挡板(11)伸缩进入真空过渡舱(4)内用以将气动启闭挡板插入槽(12)进行封闭，所述基片架配合槽(8)和气动启闭挡板插入槽(12)之间的真空过渡舱(4)侧边还开设有若干负压孔(13)，若干所述负压孔(13)通过管道与外部设置的负压泵(14)连通，两侧的所述真空过渡舱(4)内侧还活动设置有密封配合板(15)，所述密封配合板(15)用于抵靠真空过渡舱(4)位于连续型镀膜舱(1)的内侧；

两侧的所述基片架(7)同步进出真空过渡舱(4)，所述密封启闭挡板(11)与密封配合板(15)交替工作用以将真空过渡舱(4)的内外两侧进行封闭。

2.根据权利要求1所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室(2)前后两侧的内侧壁均安装有镀膜靶材(16)。

3.根据权利要求2所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室(2)两侧的连续型镀膜舱(1)内由近及远分别设置有加热室(17)、过渡室(18)和进出片室(19)。

4.根据权利要求3所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：若干所述输送链轮(5)两两对应分布于连续型镀膜舱(1)内部两侧，所述连续型镀膜舱(1)内部还设置有贯穿多个舱室的基片架导槽(20)，所述基片架(7)滑行设置于基片架导槽(20)上部。

5.根据权利要求3所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：所述基片架(7)竖直方向上设置有若干层基片隔间(21)，若干所述基片隔间(21)的上下两侧均设置有一对基片装配弹片(22)。

6.根据权利要求4或5所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：所述密封配合板(15)上开设有第一密封槽(23)，所述第一密封槽(23)内设置有第一密封胶圈(24)，所述真空过渡舱(4)与第一密封胶圈(24)抵靠一侧开设有配合密封槽(25)，所述基片架(7)两侧开设有第二密封槽(26)，两侧的所述第二密封槽(26)内设置有第二密封胶圈，两侧的所述第二密封胶圈抵靠在基片架配合槽(8)两侧。

7.根据权利要求6所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备和工艺，其特征在于：两侧的所述密封配合板(15)通过电动液压伸缩缸(28)驱动，所述密封配合板(15)抵靠一侧的真空过渡舱(4)上还活动设置有若干挤压块(29)，若干所述挤压块(29)远离密封配合板(15)一端均连接在同一密封框(30)上，所述密封框(30)设置于基片架配合槽(8)侧边，所述密封框(30)远离挤压块(29)一侧活动抵靠在基片架(7)一侧。

8.根据权利要求7所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备和工艺，其特征在于：若干所述挤压块(29)与真空过渡舱(4)之间设置有挤压弹簧(31)。