[发明专利]阻抗匹配调节方法、装置、射频电源系统和存储介质有效

专利信息
申请号: 202111618347.9 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN114448376B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 乐卫平;林伟群;张桂东 申请(专利权)人: 深圳市恒运昌真空技术有限公司
主分类号: H03H7/38 分类号: H03H7/38;H05H1/24
代理公司: 深圳市辰为知识产权代理事务所(普通合伙) 44719 代理人: 唐文波
地址: 518000 广东省深圳市宝安区西乡街道铁*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 阻抗匹配 调节 方法 装置 射频 电源 系统 存储 介质
【说明书】:

本申请涉及一种阻抗匹配调节方法、装置、射频电源系统和存储介质,采集射频电源系统中的阻抗匹配网络和负载之间的入射波和反射波,获取入射波和反射波之间的幅值差值信号和相角差值信号,根据幅值差值信号和幅值差值信号生成电容控制信号,通过电容控制信号对阻抗匹配网络中的至少一个可调电容的电容值进行调整;其中,阻抗匹配网络为中点连接型的X型阻抗匹配网络,基于调整后的至少一个可调电容,调节阻抗匹配网络的阻抗;通过采用X型阻抗匹配网络,并采取可变电容的方法改变阻抗,调节过程平滑,调节速度快,负载变化范围大,使得负载和阻抗匹配网络的总阻抗与输入阻抗一致,以达到阻抗匹配的目的,进而提高阻抗调节的精度和可靠性。

技术领域

本申请涉及射频技术领域,特别是涉及一种阻抗匹配调节方法、装置、射频电源系统和存储介质。

背景技术

随着无线通信系统的发展,射频集成电路成为关注的焦点,阻抗匹配作为射频信号传输效率及质量的关键制约因素之一,越来越受到重视。射频电源系统作为射频集成电路中重要组成部分,射频电源系统包括射频电源,射频电源是等离子体腔室的配套电源,应用于射频溅镀、PECVD化学气相沉积、反应离子刻蚀等领域中。一般来讲,等离子体腔室中的非线性负载的阻抗与射频电源的恒定输出阻抗并不相等,故在射频电源和等离子体腔室之间具有严重的阻抗失配,使得传输线上存在较大的反射功率,射频电源产生的功率无法全部输送到等离子体腔室,功率损耗较大。

发明内容

基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种能够解决射频电源的功率损耗较大的阻抗匹配调节方法、装置、射频电源系统和存储介质。

一种阻抗匹配调节方法,包括采集射频电源系统中的阻抗匹配网络和负载之间的入射波和反射波;

获取所述入射波和所述反射波之间的幅值差值信号和相角差值信号;

根据所述幅值差值信号和所述相角差值信号生成电容控制信号;

通过所述电容控制信号对所述阻抗匹配网络中的至少一个可调电容的电容值进行调整,其中,所述阻抗匹配网络为中点连接型的X型阻抗匹配网络;

基于调整后的所述至少一个可调电容,调节所述阻抗匹配网络的阻抗。

在其中一个实施例中,还包括:所述X型阻抗匹配网络包括第一可调电容、第二可调电容、第三可调电容、第四可调电容、第一可调电感和第二可调电感,

所述第一可调电感的第一端与所述第一可调电容的第一端连接,所述第一可调电感的第二端与所述第二可调电容的第一端连接,所述第二可调电感的第一端与所述第三可调电容的第一端连接,所述第二可调电感的第二端与所述第四可调电容的第一端连接,所述第一可调电容的第二端、所述第二可调电容的第二端、所述第三可调电容的第二端和所述第四可调电容的第二端分别耦合至连接中点。

在其中一个实施例中,还包括:其特征在于,基于调整后的所述至少一个可调电容,调节所述阻抗匹配网络的阻抗,包括:

基于调整后的所述第一可调电容、第二可调电容、第三可调电容和第四可调电容,采用第一公式:

其中,以调节所述阻抗匹配网络的阻抗。

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