[发明专利]一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在一基板上制备遮光层；

在所述遮光层上形成至少一个第一通孔、至少一个第二通孔以及至少一个第三通孔；

在所述遮光层以及所述第一通孔内制备第一光刻胶；

曝光光源的光线透过位于所述基板与所述曝光光源之间的第一掩模板的第一透光孔从所述基板远离所述第一光刻胶的一侧对所述第一通孔内的所述第一光刻胶进行曝光；

去除所述第一通孔之外的区域的所述第一光刻胶，保留位于所述第一通孔内的所述第一光刻胶，形成第一色阻单元。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：

在所述遮光层以及所述第二通孔内制备第二光刻胶；

所述曝光光源的光线透过位于所述基板与所述曝光光源之间的第二掩模板的第二透光孔从所述基板远离所述第二光刻胶的一侧对所述第二通孔内的所述第二光刻胶进行曝光；

去除所述第二通孔之外的区域的所述第二光刻胶，保留位于所述第二通孔内的所述第二光刻胶，形成第二色阻单元。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：

在所述遮光层以及所述第三通孔内制备第三光刻胶；

所述曝光光源的光线透过位于所述基板与所述曝光光源之间的第三掩模板的第三透光孔从所述基板远离所述第三光刻胶的一侧对所述第三通孔内的所述第三光刻胶进行曝光；

去除所述第三通孔之外的区域的所述第三光刻胶，保留位于所述第三通孔内的所述第三光刻胶，形成第三色阻单元。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一光刻胶、第二光刻胶以及第三光刻胶均为负性光刻胶。

5.根据权利要求3所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一色阻单元、所述第二色阻单元以及所述第三色阻单元分别为红色色阻单元、绿色色阻单元以及蓝色色阻单元中的一个。

6.根据权利要求3所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一通孔、所述第二通孔以及所述第三通孔同时制备形成。

7.根据权利要求3所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一透光孔、第二透光孔以及第三透光孔在所述基板上的投影分别与所述第一通孔、第二通孔以及第三通孔在所述基板上的投影相互重合。

8.根据权利要求3所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述遮光层的厚度范围为1.8μm-2.2μm。

9.一种采用权利要求1-8中任一项所述的彩膜基板的制备方法制备形成的彩膜基板，所述第一色阻单元、第二色阻单元以及第三色阻单元分别嵌合于所述第一通孔、第二通孔以及第三通孔内。

10.一种显示面板，其特征在于，包括：权利要求9所述的彩膜基板，与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层。