[发明专利]一种可镭雕的光扩散阻燃PC材料及其制备方法

权利要求书

1.一种可镭雕的光扩散PC材料，其特征在于，按质量份数计包括如下组分：

聚碳酸酯：92份；

光折射干扰剂：2份；

自制阻燃母粒：3.5份；

增韧剂：0.3份；

热稳定剂：0.3份；

主抗氧剂：0.2份；

辅助抗氧剂：0.2份；

紫外线吸收剂：0.15份；

光扩散剂：0.8份；

镭雕助剂：0.2份；

抗滴落剂：0.15；

所述自制阻燃母粒按质量份数计包括如下组分：

聚碳酸酯粉：100份；

全氟丁基磺酸钾2025：5份；

倍半硅氧烷阻燃剂：2份；

甲基苯基硅氧烷：5份；

热稳定剂：1份；

主抗氧剂：2份；

辅助抗氧剂：2份。

2.一种上述权利要求1所述的可镭雕的光扩散PC材料的制备方法，其特征在于，主要包括如下步骤：

将聚碳酸酯、光折射干扰剂、自制阻燃母粒、增韧剂、抗氧剂、紫外线吸收剂、光扩散剂、抗滴落剂以及镭雕助剂按照质量份数投放入高混机中混合；

将混合后的材料加入到挤出机中挤出；

挤出料条经过水槽冷却至室温，通过切粒机造粒完成可镭雕的光扩散阻燃PC材料的制备；所述挤出机为长径比为40:1的双螺杆挤出机，双螺杆挤出机的各温区温度为：一段：235～245℃；二段：260～275℃；三段：260～275℃；四段：260～275℃；五段：255～265℃；六段：255～265℃；七段：245～260℃；八段：245～260℃；九段：245～260℃；十段：245～260℃；机头245～255℃；所述挤出机的六段和九段上安装有真空脱挥器；

所述自制阻燃母粒的制备方法如下：

将聚碳酸酯粉和甲基苯基硅氧烷进行混合后，加入倍半硅氧烷阻燃剂、全氟丁基磺酸钾、抗氧剂及热稳定剂后再次进行混合；

混合均匀后加入到长径比为36:1的双螺杆挤出机中挤出，挤出料条经过水槽冷却至室温后切粒；双螺杆挤出机的各温区温度为：一段：235～245℃；二段：240～260℃；三段：250～265℃；四段：250～265℃；五段：250～265℃；六段：245～255℃；七段：245～255℃；八段：240～250℃；九段：240～250℃；机头240～250℃。