[发明专利]一种掩膜版交接工位的标定方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111624705.7 申请日: 2021-12-28
公开(公告)号: CN114280896A 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 林继柱;关宏武;王浩楠;赵东雷;刘颖 申请(专利权)人: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 田卫平
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜版 交接 标定 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种掩膜版交接工位的标定方法,其特征在于,包括如下步骤:

将版叉移动到第一位置并记录该第一位置的坐标,其中所述第一位置与交接入口位无干涉,且版叉至少部分伸入交接入口位;

在所述第一位置,执行交接入口位的位置标定,以获取所述交接入口位的第一标定坐标;以及

在纵向上距离所述第一位置指定距离的第二位置,执行交接末端位的位置标定,以获取交接末端位的第二标定坐标;

基于所述第一标定坐标和第二标定坐标确定所述交接工位的坐标位置。

2.如权利要求1所述的掩膜版交接工位的标定方法,其特征在于,在所述第一位置,执行交接入口位的位置标定,以获取所述交接入口位的第一标定坐标包括:

在所述第一位置,控制所述版叉在X向进行标定,以确定所述版叉与X向正负方向限位件接触时的第一横坐标和第二横坐标;

回归所述第一位置,控制所述版叉在Z向进行标定,以确定所述版叉与Z向正负方向限位件接触时的第一竖坐标和第二竖坐标。

3.如权利要求2所述的掩膜版交接工位的标定方法,其特征在于,控制所述版叉在Z向进行标定之后,所述标定方法还包括:

回归所述第一位置,控制所述版叉在Y向正方向移动,在与限位件接触后,沿Y向负方向回退所述指定距离来确定第二纵坐标;

将所述第二纵坐标对应为位置作为所述第二位置。

4.如权利要求3所述的掩膜版交接工位的标定方法,其特征在于,在纵向上距离所述第一位置指定距离的第二位置,执行交接末端位的位置标定,以获取交接末端位的第二标定坐标包括:

在所述第二位置,控制所述版叉在X向进行标定,以确定所述版叉与X向正负方向限位件接触时的第三横坐标和第四横坐标;

回归所述第二位置,控制所述版叉在Z向进行标定,以确定所述版叉与Z向正负方向限位件接触时的第三竖坐标和第四竖坐标。

5.如权利要求4所述的掩膜版交接工位的标定方法,其特征在于,基于所述第一标定坐标和第二标定坐标确定所述交接工位的坐标位置包括:

基于所述第一横坐标的绝对值与所述第二横坐标的绝对值做差确定第一差值,以及,基于所述第三横坐标的绝对值与所述第四横坐标的绝对值做差确定第二差值,并根据所述第一差值的绝对值以及所述第二差值的绝对值所确定的第一均值来确定所述坐标位置的横坐标;

所述交接工位的坐标位置的纵坐标为所述第二位置的纵坐标;

基于所述第一竖坐标的绝对值与所述第二竖坐标的绝对值做差确定第三差值,以及,基于所述第三竖坐标的绝对值与所述第四竖坐标的绝对值做差确定第四差值,并根据所述第三差值的绝对值以及所述第四差值的绝对值所确定的第二均值来确定所述坐标位置的竖坐标。

6.如权利要求5所述的掩膜版交接工位的标定方法,其特征在于,基于所述第一标定坐标和第二标定坐标确定所述交接工位的坐标位置还包括:

在所述第一横坐标的绝对值与所述第一位置的横坐标的绝对值的差值的绝对值大于所述第二横坐标的绝对值与所述第一位置的横坐标的绝对值的差值的绝对值的情况下,所述坐标位置的横坐标为所述第一位置的横坐标与所述第一均值之和;

在所述第一横坐标的绝对值与所述第一位置的横坐标的绝对值的差值的绝对值小于等于所述第二横坐标的绝对值与所述第一位置的横坐标的绝对值的差值的绝对值的情况下,所述坐标位置的横坐标为所述第一位置的横坐标与所述第一均值之差;

在所述第一竖坐标的绝对值与所述第一位置的竖坐标的绝对值的差值的绝对值大于所述第二竖坐标的绝对值与所述第一位置的竖坐标的绝对值的差值的绝对值的情况下,所述坐标位置的竖坐标为所述第一位置的竖坐标与所述第二均值之和;

在所述第一竖坐标的绝对值与所述第一位置的竖坐标的绝对值的差值的绝对值小于等于所述第二竖坐标的绝对值与所述第一位置的竖坐标的绝对值的差值的绝对值的情况下,所述坐标位置的竖坐标为所述第一位置的竖坐标与所述第二均值之差。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所),未经北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111624705.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top