[发明专利]对焦方法、装置、存储介质以及投影设备

说明书

本公开涉及一种对焦方法、装置、存储介质以及投影设备，涉及投影对焦技术领域，该方法包括：确定校正图像的目标点在投影设备的调制平面中的二维坐标；当目标点与原始图像的对焦点不一致时，根据目标点的二维坐标，结合预先单应矩阵关系，确定目标点映射在投影画面中的映射点的二维坐标；根据映射点的二维坐标，获得映射点相对于投影设备的三维坐标；根据映射点的三维坐标，确定投影设备投射校正图像的焦距。由此，可以优化投射对原始图像进行梯形校正、缩放或位移等处理后的校正图像时的对焦效果，使得投射的校正图像的画面更加清晰。而且，本公开实施例提供的对焦方法相较于通过摄像头进行对焦的方法，对焦速度更快。

技术领域

本公开涉及投影对焦技术领域，具体地，涉及一种对焦方法、装置、存储介质以及投影设备。

背景技术

在相关技术中，投影设备一般以投影设备的光心与投影区域之间的距离作为投影时的对焦距离。但是，当投影区域为倾斜平面时，或者投影设备倾斜摆放时，由于投影画面各个区域与投影设备之间的距离不等，会导致投影画面部分清晰、部分模糊。而且，在投影设备侧向投影区域的过程中，一般会基于投影画面进行图像校正，例如梯形校正，则校正后的画面投射在投影区域时，呈现的投影画面可能会缩放到任何位置。因此，如果投影设备基于以原来的对焦距离进行对焦，会导致投影画面出现部分模糊。在极端情况下，甚至会导致整个投影画面模糊。

发明内容

本公开的目的是提供一种对焦方法、装置、存储介质以及电子设备，该方法可以优化投影设备在侧向投影场景中的对焦效果。

第一方面，本公开实施例提供了一种对焦方法，包括：

确定校正图像的目标点在投影设备的调制平面中的二维坐标；

在所述校正图像的目标点与所述校正图像对应的原始图像的对焦点不一致的情况下，根据所述目标点的二维坐标，结合预先建立的在所述调制平面中的原始图像与该原始图像投射在投影区域上的投影画面之间的单应矩阵关系，确定所述目标点映射在所述投影画面中的映射点的二维坐标；

根据所述映射点的二维坐标，获得所述映射点相对于所述投影设备的三维坐标；

根据所述映射点的三维坐标，确定所述投影设备投射所述校正图像的焦距。

第二方面，本公开实施例提供了一种对焦装置，包括：

确定模块，配置为确定校正图像的目标点在投影设备的调制平面中的二维坐标；

单应矩阵构建模块，配置为在所述校正图像的目标点与所述校正图像对应的原始图像的对焦点不一致的情况下，根据所述目标点的二维坐标，结合预先建立的在所述调制平面中的原始图像与该原始图像投射在投影区域上的投影画面之间的单应矩阵关系，确定所述目标点映射在所述投影画面中的映射点的二维坐标；

转换模块，配置为根据所述映射点的二维坐标，获得所述映射点相对于所述投影设备的三维坐标；

对焦模块，配置为根据所述映射点的三维坐标，确定所述投影设备投射所述校正图像的焦距。

第三方面，本公开实施例提供了一种非临时性计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现第一方面所述方法的步骤。

第四方面，本公开实施例提供了一种投影设备，包括：

存储器，其上存储有计算机程序；

处理器，用于执行所述存储器中的所述计算机程序，以实现第一方面所述方法的步骤。