[发明专利]聚合材料及制备方法、改性聚合材料和量子点发光二极管在审

专利信息
申请号: 202111632201.X 申请日: 2021-12-29
公开(公告)号: CN116425971A 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 梁文林 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: C08G73/02 分类号: C08G73/02;H10K50/115;H10K50/16;H10K71/00;H10K85/10;H10K101/40
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 方艳丽
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 聚合 材料 制备 方法 改性 量子 发光二极管
【权利要求书】:

1.一种聚合材料,其特征在于,所述聚合材料具有式1所示的结构:

其中,R选自具有2至20个碳原子的酰胺基、具有1至20个碳原子的酯基、具有3至20个碳原子的环烷基、具有6至80个碳原子的取代或未取代的芳烃基、具有5至80个碳原子的取代或未取代的杂芳烃基、具有2至20个碳原子的取代或未取代的烯基、具有2至20个碳原子的炔基、具有6至80个碳原子的芳氧基或具有6至80个碳原子的芳硫基;

n的范围为50~100。

2.根据权利要求1所述的聚合材料,其特征在于,所述R选自具有6至80个碳原子的取代或未取代的芳烃基或具有5至80个碳原子的取代或未取代的杂芳烃基,所述芳烃基包括联苯基或芴基,所述杂芳烃基包括二酮吡咯基或噻吩基。

3.根据权利要求1所述的聚合材料,其特征在于,所述聚合材料具有式2、式7或式9所示的结构:

4.一种改性聚合材料,其特征在于,所述改性聚合材料包括如权利要求1~3中任一项所述的聚合材料和修饰材料,所述修饰材料和所述聚合材料的氮原子通过共价键结合,所述修饰材料具有炔基。

5.根据权利要求4所述的改性聚合材料,其特征在于,所述修饰材料包括乙炔基取代的石墨烯、导电聚乙炔或乙炔基取代的富勒烯。

6.根据权利要求4所述的改性聚合材料,其特征在于,所述聚合材料和所述修饰材料的摩尔比为1:1.5~1:3。

7.根据权利要求4所述的改性聚合材料,其特征在于,所述改性聚合材料的电子迁移率为10-3~10-4cm2V-1s。

8.一种聚合材料的制备方法,其特征在于,包括:将式3化合物在催化剂的作用下反应,得到式1化合物;

其中,R选自具有2至20个碳原子的酰胺基、具有1至20个碳原子的酯基、具有3至20个碳原子的环烷基、具有6至80个碳原子的取代或未取代的芳烃基、具有5至80个碳原子的取代或未取代的杂芳烃基、具有2至20个碳原子的取代或未取代的烯基、具有2至20个碳原子的炔基、具有6至80个碳原子的芳氧基或具有6至80个碳原子的芳硫基;

n的范围为50~100。

9.根据权利要求8所述的聚合材料的制备方法,其特征在于,所述催化剂为金属催化剂。

10.一种发光二极管,包括阳极层、阴极层和设置在所述阳极层与所述阴极层之间的发光层,其特征在于,所述阴极层与所述发光层之间设置有电子传输层,所述电子传输层的材料包括如权利要求1~3中任一项所述的聚合材料或如权利要求4~7中任一项所述的改性聚合材料。

11.根据权利要求10所述的发光二极管,其特征在于,所述电子传输层的厚度为10~180nm。

12.根据权利要求10所述的发光二极管,其特征在于,所述发光层为量子点发光层。

13.根据权利要求12所述的发光二极管,其特征在于,所述量子点发光层的量子点材料包括硅量子点、锗量子点、硫化镉量子点、硒化镉量子点、碲化镉量子点、硒化锌量子点、硫化铅量子点、硒化铅量子点、磷化铟量子点、砷化铟量子点和氮化镓量子点中的一种或多种;和/或,所述阳极层的材料包括Au、ITO、IZO、Al、Pt或Si中的一种或多种;和/或,所述阴极层的材料包括Au、ITO、IZO、Al、Pt或Si中的一种或多种。

14.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求10~13中任一项所述的发光二极管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL科技集团股份有限公司,未经TCL科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111632201.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top