[发明专利]一种电致变色专用镀膜设备在审
申请号: | 202111635197.2 | 申请日: | 2021-12-29 |
公开(公告)号: | CN114427076A | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 徐旻生;张永胜;庄炳河;张晓鹏;伍发根;杨凤鸣 | 申请(专利权)人: | 深圳奥卓真空设备技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/00 | 分类号: | C23C14/00;C23C14/34;C23C14/56;C23C14/08 |
代理公司: | 深圳市圳博友邦专利代理事务所(普通合伙) 44600 | 代理人: | 王玲玲 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区坂田街道*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 变色 专用 镀膜 设备 | ||
本发明公开了一种电致变色专用镀膜设备,属于电致变色材料加工技术领域。本发明包括依次真空密封联接并相互独立的进片室、离子储存层制程室、第一搬运室、离子交换层制程室、第二搬运室、阴极变色层制程室和出片室,每个腔室均设有独立的门阀和真空泵;基片架:用于放置待处理的基板;搬运系统:包括依次穿过生产线的导轨、升降机构、真空泵、门阀、夹紧机构、传感器与动力组件;中央控制系统:用于控制整条生产线运行。本发明的三个制程室与进片室、出片室、搬运室串联起来,实现整个工艺的连续性,避免了产品反复破空后再进行另外一道工序的镀膜,节省时间提高效率,提升离子交换层的膜质,保障产品变色响应时间稳定保持在亚秒量级。
技术领域
本发明属于电致变色材料加工技术领域,尤其涉及一种电致变色专用镀膜设备。
背景技术
电致变色材料的科研和制作设备种类繁多,有溅射法、热蒸发法、溶胶-凝胶法、化学气相沉积法、电沉积法等方式;其中发明本专利设备是其中的一种为溅射法,溅射法原理是采用高能量的惰性气体(一般都是Ar)的离子轰击靶材,飞溅出来的靶材原子(或分子)沉积到基板上形成薄膜的方式。溅射法对于高熔点和低气压的元素材料同样能适应,使用范围广。制作出来的薄膜均匀性好,致密性高,和基板贴合紧密,不易脱落而且适用于各种尺寸基板需求。溅射法的溅射设备种类、外观形状也存在多样化,有立式、卧式,垂直单桶式以及垂直多桶式结构,且功能配置上也有较多可选择性。
已有技术对于电致变色的技术要求存在欠缺及制程不够专业,导致响应速度偏慢(10秒左右),无法实现并维持在亚秒量级的反应,产品寿命有限,容易发生性能降低,或功能失效,无法实现5~10年甚至更长的产品寿命,特别是制程设备十分昂贵,进行批量化生产成本太高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种电致变色专用镀膜设备,旨在解决所述背景技术中存在的问题。为实现所述目的,本发明采用的技术方案是:
一种电致变色专用镀膜设备,包括:制程室组:包括依次密封联接并相互独立的进片室、离子储存层制程室、第一搬运室、离子交换层制程室、第二搬运室、阴极变色层制程室和出片室,每个腔室均设有独立的门阀和真空泵;基片架:用于放置待处理的基板;搬运系统:包括依次穿过生产线的导轨、升降机构、真空泵、门阀、夹紧机构、传感器与动力组件;中央控制系统:用于控制整条生产线运行。
生产线各个重要部分的详细设计:
(1)装片站:装片站配置有升降机构、夹紧机构以及光电传感器等部件,对空载的基片架进行夹紧并升降,机械手臂(或作业员)将清洗干净的待镀膜的基板装到基片架上。
(2)第一平移台:配置有夹紧机构、光电传感器、传送系统和伺服电机,能够对工件前后左右精确移动。
(3)进片室:配置有粗抽泵组,通过对粗抽泵组冗余设计,确保部分真空泵出现故障时保证生产持续进行,进片室还配置有真空计、搬送系统、门阀、光电传感器等部件。
(4)离子储存层制程室:此制程室为圆桶式设计,里面搭配有真空升降挂片机构、可旋转伞架、1~2对圆柱旋转ITO阴极系统、1~2对圆柱旋转NiW阴极系统、ICP氧化源、进气反应气体系统、真空计、加热系统、TMP分子泵、电源等,可旋转伞架可以放置1~30块基板同时加工,提高加工效率。
(5)第一搬送室:配置有搬送系统、门阀、TMP分子泵、用于水气凝结和吸附杂质气体的装置,包括但不局限于冷阱。
(6)离子交换层制程室:此制程室为圆桶式设计,里面搭配有真空升降挂片机构、可旋转伞架、2~8对Li阴极系统,该阴极系统包括但不局限于平面阴极系统、圆柱旋转阴极系统,该制程室还包括进气反应气体系统、真空计、TMP分子泵、电源和用于吸附真空腔室的残余气体缩短抽气时间,洁净的真空腔室环境的装置,包括但不限于水汽吸收器。
(7)第二搬送室:配置有搬送系统、门阀、TMP分子泵、用于水汽凝结和吸附杂质气体的装置,包括但不局限于冷阱。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳奥卓真空设备技术有限公司,未经深圳奥卓真空设备技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111635197.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类