[发明专利]过压保护电路及装置在审

专利信息
申请号: 202111636041.6 申请日: 2021-12-29
公开(公告)号: CN114284990A 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 刘明;薛珂;李曙光 申请(专利权)人: 南京英锐创电子科技有限公司
主分类号: H02H3/20 分类号: H02H3/20;H02H7/20
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 徐丽
地址: 210008 江苏省南京市江北*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 保护 电路 装置
【说明书】:

发明提供了一种过压保护电路及装置,该电路包括:第一PMOS管、第二PMOS管、第三PMOS管、第四PMOS管、第五PMOS管、第六PMOS管以及电平转化电路;当该外部信号端的电压高于该目标芯片的承载电压时,该电平转化电路输出预设电压;该预设电压与该外部信号端的电压存在压差,控制该第五PMOS管和该第六PMOS管导通,该第二PMOS管和该第四PMOS管关闭,以实现该目标芯片的过压保护。该电路只通过单一种类的耐高压PMOS管就可以实现芯片的过压保护,从而降低对NMOS器件的工艺的依赖。

技术领域

本发明涉及芯片技术领域,尤其是涉及一种过压保护电路及装置。

背景技术

芯片在使用过程中经常会因操作不当或芯片的接口信号、电源异常等情况造成芯片IO端过压或者过流造成芯片损坏,为此对可靠性有极高要求的应用领域中,就必要采取措施,以实现芯片在异常情况下自我保护,避免失效。

一般用于芯片输出端过压保护的电路采用双高压PMOS和NMOS加双高压NMOS组成的传输门结构。当外部信号过压时,检测电路会产生关断信号,关闭传输门,从而实现过压保护。该结构的PMOS、NMOS均需要满足高耐压的要求。其中,该NMOS器件不但要耐高压,而且又要同时与芯片衬底充分隔离,所以现有的过压保护电路对NMOS器件的工艺的有很高的依赖。

发明内容

本发明的目的在于提供一种过压保护电路及装置,只通过单一种类的耐高压PMOS管就可以实现芯片的过压保护,从而降低对NMOS器件的工艺的依赖。

第一方面,本发明实施例提供了一种过压保护电路,其中,该电路包括:第一PMOS管、第二PMOS管、第三PMOS管、第四PMOS管、第五PMOS管、第六PMOS管以及电平转化电路;该第一PMOS管的源极与目标芯片的外部信号端相连;该第一PMOS管的漏极与该第二PMOS管的源极相连;该第一PMOS管的栅极与该第三PMOS管的漏极相连;该第二PMOS管的漏极与目标芯片内部信号端相连;该第二PMOS管的栅极与该第三PMOS管的漏极相连;该第三PMOS管的源极与该第四PMOS管的漏极相连;该第三PMOS管的栅极与该第六PMOS管的源极相连;该第四PMOS管的栅极与该第六PMOS管的源极相连;该第五PMOS管的栅极与该第六PMOS管的栅极与该电平转化电路相连;当该外部信号端的电压高于该目标芯片的承载电压时,该电平转化电路输出预设电压;该预设电压与该外部信号端的电压存在压差,控制该第五PMOS管和该第六PMOS管导通,该第二PMOS管和该第四PMOS管关闭,以实现该目标芯片的过压保护。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式,其中,该电平转化电路包括:NMOS管、钳位二极管和第一电阻;该NMOS管的栅极连接外设的报警电路;该NMOS管的源极接地;该NMOS管的漏极连接该第一电阻;该第一电阻连接该钳位二极管的正极;该钳位二极管的负极与该外部信号端相连;当该外部信号端的电压高于该目标芯片的承载电压范围时,该外设的报警电路输出该NMOS管的导通信号;该NMOS管导通,该钳位二极管的正极输出该预设电压。

结合第一方面的第一种可能的实施方式,本发明实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式,其中,该钳位二极管的类型为:齐纳二极管。

结合第一方面的第一种可能的实施方式,本发明实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式,其中,该电平转化电路还包括:第二电阻;该第二电阻与该钳位二极管并联;该第二电阻用于对该钳位二极管进行分流。

结合第一方面的第三种可能的实施方式,本发明实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式,其中,如果该钳位二极管的反向击穿电压为VB,该预设电压的值为该外部信号端的电压与该反向击穿电压的差值。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第五种可能的实施方式,其中,该目标芯片的承载电压范围为CMOS电平范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京英锐创电子科技有限公司,未经南京英锐创电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111636041.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top