[发明专利]用于执行光学邻近校正的方法、设备和存储介质

权利要求书

1.一种执行光学邻近校正的方法，包括：

通过修改第一掩模版图，确定第二掩模版图，所述第一掩模版图与第一精度格式的目标图案相关联；

通过使用第二精度格式对所述第二掩模版图应用光刻模型，来确定所述第二精度格式的晶圆图像，所述第二精度格式的精度低于所述第一精度格式；

将所述第二精度格式的晶圆图像转换为所述第一精度格式的晶圆图像；

使用所述第一精度格式确定指示所述第一精度格式的晶圆图像与所述目标图案之间的差异的度量指标；以及

基于所述度量指标满足预定标准，输出所述第二掩模版图。

2.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述第一精度格式包括32位浮点数格式FP32；并且

所述第二精度格式包括16位脑浮点数格式BF16。

3.根据权利要求2所述的方法，还包括：

通过截断所述第一精度格式的尾数，将表示所述第一掩模版图的所述第一精度格式的数值转换为所述第二精度格式的数值。

4.根据权利要求2所述的方法，其中将所述第二精度格式的晶圆图像转换为所述第一精度格式的晶圆图像包括：

通过补全所述第二精度格式的尾数，将表示所述晶圆图像的所述第二精度格式的数值转换为所述第一精度格式的数值；

通过对所述第一精度格式的数值进行插值，确定对应的所述第一精度格式的估计值；以及

利用所述估计值来表示所述晶圆图像。

5.根据权利要求1所述的方法，其中使用所述第二精度格式来对所述第二掩模版图应用光刻模型包括：

使用所述第二精度格式来进行卷积运算和傅里叶变换运算中的至少一项。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中：

使用所述第一精度格式确定所述度量指标包括利用支持所述第一精度格式的第一处理器来执行；并且

确定所述第二精度格式的晶圆图像包括利用支持所述第二精度格式的第二处理器来执行，

其中所述第一处理器与所述第二处理器是同一处理器或不同的处理器。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述第一处理器和所述第二处理器选自由以下项组成的组：中央处理单元CPU、图形处理单元GPU、现场可编程门阵列FPGA、加速处理器AP、张量处理单元TPU和神经网络处理单元NPU。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述度量指标包括以下至少一项：

边缘放置误差，以及

关键尺寸。

9.一种电子设备，包括：

处理器；以及

与所述处理器耦合的存储器，所述存储器具有存储于其中的指令，所述指令在被处理器执行时使所述设备执行动作，所述动作包括：

通过修改第一掩模版图，确定第二掩模版图，所述第一掩模版图与第一精度格式的目标图案相关联；

通过使用第二精度格式对所述第二掩模版图应用光刻模型，来确定所述第二精度格式的晶圆图像，所述第二精度格式的精度低于所述第一精度格式；

将所述第二精度格式的晶圆图像转换为所述第一精度格式的晶圆图像；

使用所述第一精度格式确定指示所述第一精度格式的晶圆图像晶圆图像与所述目标图案之间的差异的度量指标；以及

基于所述度量指标满足预定标准，输出所述第二掩模版图。

10.一种计算机可读介质，包括机器可执行指令，所述机器可执行指令在被执行时使机器执行根据权利要求1至8中任一项所述的方法。