[发明专利]一种两性霉素B的杂质A或杂质B的分离纯化方法在审
申请号: | 202111640190.X | 申请日: | 2021-12-29 |
公开(公告)号: | CN114315932A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 郭一平;党万利;杨晓章;张一乐;覃俐 | 申请(专利权)人: | 浙江天台药业股份有限公司 |
主分类号: | C07H17/08 | 分类号: | C07H17/08;C07H1/06 |
代理公司: | 杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙) 33315 | 代理人: | 张勋斌 |
地址: | 317200 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 两性 霉素 杂质 分离 纯化 方法 | ||
1.一种两性霉素B的杂质A或杂质B的分离纯化方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)对两性霉素B进行预处理,得到两性霉素B的杂质溶液;
(2)在动态轴向压缩制备色谱中,以柠檬酸水溶液/乙腈为流动相进行洗脱,收集目标杂质馏分,然后经过减压浓缩,得到两性霉素B杂质浓缩液;
(3)以水/乙腈为流动相平衡色谱柱,改变流动相比例,将步骤(2)中得到的两性霉素B杂质浓缩液进行再洗脱除盐,收集目标馏分;
(4)将步骤(3)收集的馏分进行减压蒸馏,除去大部分溶剂后,然后进行冷冻干燥,得到两性霉素B的杂质A或杂质B。
2.根据权利要求1所述的两性霉素B的杂质A或杂质B的分离纯化方法,其特征在于,两性霉素B的杂质为杂质A;
步骤(1)中,所述预处理包括:
在两性霉素B中加入NMP、乙腈和浓盐酸,超声搅拌至完全溶解,避光破坏20~40min后,再加入乙酸铵溶液。
3.根据权利要求2所述的两性霉素B的杂质C或杂质E的分离纯化方法,其特征在于,步骤(2)中,流动相比例:0.01~0.03M柠檬酸水溶液与乙腈体积比为65~75:25~35;检测波长:383nm和303nm;流速:45~55mL/min;进样体积:200mL;采用50DAC制备液相色谱进行制备。
4.根据权利要求1所述的两性霉素B的杂质A或杂质B的分离纯化方法,其特征在于,两性霉素B的杂质为杂质B;
步骤(1)中,所述预处理包括:
在两性霉素B中加入NMP、甲醇和浓盐酸,超声搅拌至完全溶解,避光破坏20~40min后,再加入乙酸铵溶液。
5.根据权利要求4所述的两性霉素B的杂质A或杂质B的分离纯化方法,其特征在于,步骤(2)中,流动相比例:0.01~0.03M柠檬酸水溶液与乙腈的体积比为60~70:30~40;检测波长:383nm;流速:45~55mL/min;进样体积200mL;采用50DAC制备液相色谱制备。
6.根据权利要求1~5任一项所述的两性霉素B的杂质A或杂质B的分离纯化方法,其特征在于,步骤(3)中,平衡色谱柱时,水和乙腈的体积比为85~95:5~15;
洗脱时,水和乙腈的体积比为60~70:30~40。
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