[发明专利]一种蒸镀装置在审
申请号: | 202111641823.9 | 申请日: | 2021-12-29 |
公开(公告)号: | CN114318237A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 匡友元 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 方艳丽 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 装置 | ||
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括外壳、位于所述外壳内的容纳腔,以及设置于所述容纳腔内的:
坩埚组,所述坩埚组包括多个坩埚;
其中,所述坩埚包括坩埚本体、主喷嘴和副喷嘴,所述主喷嘴连通所述坩埚本体并可沿第一方向输出物料,所述副喷嘴连通所述坩埚本体并可沿第二方向输出所述物料,所述第二方向和所述第一方向交叉,所述主喷嘴和所述副喷嘴均用于朝向待蒸镀基板输出所述物料。
2.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述主喷嘴包括主喷管和主出料口,所述副喷嘴包括副喷管和副出料口,所述副喷管连接于所述主喷管,所述副喷嘴通过所述主喷嘴连通所述坩埚本体。
3.如权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,至少一个所述副喷嘴设置于所述主喷嘴的第一侧,至少一个所述副喷嘴设置于所述主喷嘴的第二侧,所述第一侧与所述第二侧相对。
4.如权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,所述主喷嘴的所述第一侧的所述副喷嘴的数量,与所述主喷嘴的所述第二侧的所述副喷嘴的数量相同。
5.如权利要求4所述的蒸镀装置,其特征在于,所述主喷嘴的所述第一侧的所述副喷嘴,与所述主喷嘴的所述第二侧的所述副喷嘴对称设置。
6.如权利要求3至5任一项所述的蒸镀装置,其特征在于,多个所述坩埚沿第三方向并列排布,每一所述坩埚的所述第一侧的所述副喷嘴、主喷嘴、所述第二侧的所述副喷嘴沿所述第三方向排布。
7.如权利要求6所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第三方向垂直于所述待蒸镀基板的移动方向。
8.如权利要求6所述的蒸镀装置,其特征在于,多个所述副喷嘴设置于所述主喷嘴的第一侧,所述第一侧的多个所述副喷嘴沿第一方向依次设置于所述主喷嘴的主喷管上;
多个所述副喷嘴设置于所述主喷嘴的第二侧,所述第二侧的多个所述副喷嘴沿所述第一方向依次设置于所述主喷嘴的主喷管上。
9.如权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述主喷嘴的主出料口与所述副喷嘴的所述副出料口位于同一平面。
10.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述副喷嘴的副喷管呈直线状或曲线状。
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