[发明专利]抛光设备和抛光方法在审
| 申请号： | 202111654099.3 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114290231A | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 白宗权 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/30;B24B57/02;B24B7/22;H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 | 代理人： | 李斌栋;沈寒酉 |
| 地址： | 710100 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 设备 方法 | ||
1.一种抛光设备，其特征在于，所述抛光设备包括：
抛光台；
设置在所述抛光台的上表面上的抛光垫；
用于驱动所述抛光台旋转的驱动轴；
设置在所述抛光台的上方空间的抛光头和喷嘴组件；
其中，所述喷嘴组件包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴用于向所述抛光垫的中央区域喷洒第一抛光液，所述第一抛光液通过所述抛光台的旋转被分布在整个所述抛光垫上，所述第二喷嘴用于向所述抛光垫的边缘区域喷洒第二抛光液，以在所述边缘区域处提供大于所述中央区域处的抛光去除量。
2.根据权利要求1所述的抛光设备，其特征在于，所述第一抛光液的粒径小于第二抛光液的粒径，并且所述第一抛光液的PH值小于等于第二抛光液的PH值。
3.根据权利要求1所述的抛光设备，其特征在于，所述第二喷嘴设置成在由所述第一喷嘴喷洒的抛光液分布在整个所述抛光垫之后喷洒所述第二抛光液。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的抛光设备，其特征在于，所述抛光设备还包括设置在所述抛光台上的振动器，所述振动器设置成使所述抛光台产生振动，以有助于调整所述第一抛光液和/或第二抛光液的分布。
5.根据权利要求1至3中的任一项所述的抛光设备，其特征在于，所述抛光设备还包括用于调节所述驱动轴的旋转速度的变速器，以控制所述抛光台的旋转速度。
6.一种抛光方法，其特征在于，所述抛光方法包括：
通过驱动轴驱动上表面设置有抛光垫的抛光台旋转；
通过第一喷嘴向所述抛光垫的中央区域喷洒第一抛光液；
通过第二喷嘴向所述抛光垫的边缘区域喷洒第二抛光液；
其中，所述第一抛光液和所述第二抛光液通过所述抛光台的旋转分布在所述抛光垫上，以在所述边缘区域处提供大于所述中央区域处的抛光去除量。
7.根据权利要求6所述的抛光方法，其特征在于，所述抛光方法还包括：通过连接至所述驱动轴的变速器调节所述驱动轴的旋转速度以控制抛光台的旋转速度。
8.根据权利要求6所述的抛光方法，其特征在于，所述抛光方法还包括：通过振动器使所述抛光台振动。
9.根据权利要求6所述的抛光方法，其特征在于，通过第二喷嘴向所述抛光垫的边缘区域喷洒第二抛光液的步骤在通过第一喷嘴向所述抛光垫的中央区域喷洒第一抛光液的步骤之后执行。
10.根据权利要求6至9中的任一项所述的抛光方法，其特征在于，所述第一抛光液的粒径小于第二抛光液的粒径，并且所述第一抛光液的PH值小于等于第二抛光液的PH值。
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