[发明专利]亚光釉及其制备工艺

权利要求书

1.一种亚光釉的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1，研磨，首先将亚光熔块装入釉磨机磨制1.5h，再通过传输装置（3）将磨制后亚光熔块传输至混料装置（1）内部；然后将其余各原料依次倒入配料装置（2）内，并通过配料装置（2）对其进行等比例配比后并传输至混料装置（1）内，通过混料装置（1）对各原料进行充分混合搅拌；

S2，将通过混料装置（1）充分混合后的原材料再次装入至釉磨机内，磨制32h，作为混合原料备用；

S3，釉浓度调节，将二次研磨后的原材料通过传输装置（3）传输至搅拌装置（4）内部，并在供水装置（5）和搅拌装置（4）的配合下，对原料内进行注水并持续搅拌，直至原材料搅拌呈釉浆，并使其釉浆浓度至45°波美度，并在真空度为0.01~0.05MPa的条件下真空除泡15分钟，得到釉浆料；

S4，施釉，将烧制好的陶瓷素坯浸入所得釉浆料中进行施釉，干燥，得陶瓷制品初品；

S5，氧化烧制，将所得的陶瓷制品初品在氧化氛围下进行烧制，第一阶段：从20℃升温到400℃，时间2h；第二阶段：从400℃升温到700℃，时间2h；第三阶段：从700℃升温到1000℃，时间3h；第四阶段：从1000℃升温到1200℃，时间4h；然后自然冷却，得到表面有亚光釉的陶瓷制品；

配料装置（2）固定安装于混料装置（1）的顶端，配料装置（2）的输出端朝向混料装置（1）的顶部设置；传输装置（3）固定安装于混料装置（1）的一侧，传输装置（3）的入料端设置于混料装置（1）出料端的正下方，搅拌装置（4）竖直设置于传输装置（3）出料端的正下方，传输装置（3）的出料口正对搅拌装置（4）的入料口设置；供水装置（5）设置于搅拌装置（4）的一侧，供水装置（5）通过管路与搅拌装置（4）内部连通设置；

混料装置（1）包括有底座（1a）、混料桶（1b）、导料仓（1c）、伺服电机（1d）、混料桨（1e）和挡料板（1f）；混料桶（1b）竖直设置于底座（1a）上，底座（1a）为一个顶部开口的圆柱形仓体，底座（1a）的底部一侧还开设有出料口；挡料板（1f）可拔插的设置于出料口处；导料仓（1c）固定安装于混料桶（1b）的顶部，混料桨（1e）可转动的设置于混料桶（1b）内；伺服电机（1d）固定安装于混料桶（1b）的底部，混料桨（1e）的输出轴与混料桨（1e）传动连接；

混料桨（1e）包括转轴（1e1）、螺旋桨叶（1e2）、过料孔（1e3）、柔性围板（1e4）和破料桨（1e5）；转轴（1e1）可转动的设置于混料桶（1b）内；螺旋桨叶（1e2）环绕设置于转轴（1e1）的外壁；螺旋桨叶（1e2）的表面还贯穿设置有过料孔（1e3）；柔性围板（1e4）围绕设置于螺旋桨叶（1e2）的边缘；破料桨（1e5）可拆卸的设置于转轴（1e1）的底部；

配料装置（2）包括有第一安装架（2a）、第一导料板（2b）、第一落料口（2b1）、第一长圆形围板（2c）、滑轨（2d）、第二导料板（2e）、卡槽（2e1）、第二落料口（2e2）、滑柱（2f）、第二长圆形围板（2g）、分料桶（2r）、储料仓（2j）和刮板（2k）；第一安装架（2a）可拆卸的设置于混料桶（1b）的顶部；第一导料板（2b）固定安装于第一安装架（2a）上，第一导料板（2b）的底部与导料仓（1c）的顶部呈同一水平设置，第一导料板（2b）的一端还贯穿开设有一个第一落料口（2b1）；第一长圆形围板（2c）竖直设置于第一导料板（2b）上，第一落料口（2b1）通过第一长圆形围板（2c）围设于其内部；滑轨（2d）沿着第一导料板（2b）的长边方向固定安装于第一导料板（2b）上，第一导料板（2b）设置于远离第一落料口（2b1）的另一端；第二导料板（2e）设置于第一导料板（2b）的正上方，第二导料板（2e）的下表面竖直安装有两个滑柱（2f），滑柱（2f）的下端与滑轨（2d）滑动连接；第二导料板（2e）的端部还贯穿开设有第二落料口（2e2），卡槽（2e1）开设于第二落料口（2e2）的正下方；第二长圆形围板（2g）竖直设置于第二导料板（2e）上，第二落料口（2e2）通过第二长圆形围板（2g）围设于其内部；直线往复驱动器（2h）竖直设置于第一导料板（2b）的一侧，直线往复驱动器（2h）的输出端与滑柱（2f）转动连接；分料桶（2r）可拆卸设置于卡槽（2e1）内，分料桶（2r）的高度与第一导料板（2b）和第二导料板（2e）之间的高度等同；储料仓（2j）竖直设置于第二导料板（2e）正上方，储料仓（2j）的出料口位于第二长圆形围板（2g）内部并贴合第二导料板（2e）表面设置；刮板（2k）固定安装于分料桶（2r）的一侧。