[发明专利]亚光釉及其制备工艺有效
申请号: | 202111657803.0 | 申请日: | 2021-12-31 |
公开(公告)号: | CN114315154B | 公开(公告)日: | 2023-09-15 |
发明(设计)人: | 苏建兴;甘文中;曾华升 | 申请(专利权)人: | 福建省德化万达陶瓷有限公司 |
主分类号: | C03C8/14 | 分类号: | C03C8/14;C04B41/86 |
代理公司: | 泉州协创知识产权代理事务所(普通合伙) 35231 | 代理人: | 郭艺铭 |
地址: | 362500 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 亚光 及其 制备 工艺 | ||
本发明涉及陶瓷技术领域,具体是涉及亚光釉,本发明还涉及一种亚光釉及其制备工艺,配料装置固定安装于混料装置的顶端,配料装置的输出端朝向混料装置的顶部设置;传输装置固定安装于混料装置的一侧,传输装置的入料端设置于混料装置出料端的正下方,搅拌装置竖直设置于传输装置出料端的正下方;供水装置设置于搅拌装置的一侧,供水装置通过管路与搅拌装置内部连通设置,本申请可以对多种原材料进行自动配料并且可以全自动化对配料完毕后的原材料进行混料、磨制及制浆工作,无需人工,原材料配比精准、高效,自动化程度高、工作效率高、操作简单便捷。
技术领域
本发明涉及陶瓷技术领域,具体是涉及亚光釉,本发明还涉及一种亚光釉及其制备工艺。
背景技术
亚光釉是介于有光釉和无光釉之间的一种特殊釉料,其釉面反光能力较弱,表面无玻璃光泽,但呈现出柔和丝状或绒状光泽。亚光釉的釉料经高温融后,在冷却过程中釉成分中的一部分析出晶体,其晶体极微小且有规律的分散、嵌在玻璃基体中,光源照射在其产生漫反射,为保证亚光釉析出的晶体均匀分散于玻璃基体中,以使得到的亚光釉质地均匀紧密,而现有的亚光釉的釉料一般组分较为复杂,需要对原材料进行等比例配比、混合及研磨等一系列工作,其中对原材料的配比在釉浆的制作过程中最为繁琐,传统配比方式需要通过人工拿取量筒或通过经验自行把握,不仅人工强度大且材料配比比例偏差较大,这样就会出现每次配比出来的釉浆以及最终的烧制完成的效果均不相同;
为此,我们需要一种可以对多种原材料进行同时配料且可以自动混合搅拌及制浆的设备,可以对原材料进行精准的配比、混料及制浆工作,使得每次制作出来的釉浆成色均一且可以对材料比例进行自调节,从而制成所需不同的釉浆。
发明内容
基于此,有必要针对现有技术问题,提供亚光釉及其制备工艺。
为解决现有技术问题,本发明采用的技术方案为:
根据本申请的一个方面,本申请提供一种亚光釉,包括以下质量份的组分:高岭土28份、黏土15份、硼砂8份、亚光熔块17份、铝镁铝镁水滑石4份、曲酸二棕榈酸酯3份、磷酸钙5份、氧化钙5份、氯化亚锡12份。
根据本申请的一个方面,本申请提供一种亚光釉,包括以下步骤:
S1,研磨,首先将亚光熔块装入釉磨机磨制1. 5h,在通过传输装置将磨制后亚光熔块传输至混料装置内部;然后将其余各原料依次倒入配料装置内,并通过配料装置对其进行等比例配比后并传输至混料装置内,通过混料装置对各原料进行充分混合搅拌;
S2,将通过混料装置充分混合后的原材料再次装入至釉磨机内,磨制32h,作为混合原料备用;
S3,釉浓度调节,将二次研磨后的原材料通过传输装置传输至搅拌装置内部,并在供水装置和搅拌装置的配合下,对原料内进行注水并持续搅拌,直至原材料搅拌呈釉浆,并使其釉浆浓度至45°波美度,并在真空度为0.01~0.05MPa的条件下真空除泡15分钟,得到釉浆料;
S4,施釉,将烧制好的陶瓷素坯浸入所得釉浆料中进行施釉,干燥,得陶瓷制品初品;
S5,氧化烧制,将所得的陶瓷制品初品在氧化氛围下进行烧制,第一阶段:从20℃升温到400℃,时间2h;第二阶段:从400℃升温到700℃,时间2h;第三阶段:从700℃升温到1000℃,时间3h;第四阶段:从1000℃升温到1200℃,时间4h;然后自然冷却,得到表面有亚光釉的陶瓷制品。
优选的,配料装置固定安装于混料装置的顶端,配料装置的输出端朝向混料装置的顶部设置;传输装置固定安装于混料装置的一侧,传输装置的入料端设置于混料装置出料端的正下方,搅拌装置竖直设置于传输装置出料端的正下方,传输装置的出料口正对搅拌装置的入料口设置;供水装置设置于搅拌装置的一侧,供水装置通过管路与搅拌装置内部连通设置。
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