[发明专利]椭偏仪光谱浮动模型及建立方法在审

专利信息
申请号: 202111658726.0 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN114324184A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 陈旺;薛英武;劳开满 申请(专利权)人: 广州粤芯半导体技术有限公司
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21;G06F30/20
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 钟晶
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 椭偏仪 光谱 浮动 模型 建立 方法
【权利要求书】:

1.一种椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,包括:

建立量测程式,对晶圆进行一次量测,并收集所述晶圆膜层的量测光谱数据;

使用OLSA软件,对所述量测光谱数据进行拟合;

通过编辑所述晶圆对应膜层的射散模型,增加一个谐振子,并将所述谐振子的初始值改为0;

在所述量测程式输出项里面选择所述谐振子。

2.根据权利要求1所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,在对所述晶圆进行量测之前,在所述量测程式中开启收集光谱的功能。

3.根据权利要求2所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,在对所述晶圆进行量测之前,确定所述晶圆进行量测的准确位置。

4.根据权利要求3所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,收集所述晶圆多个膜层的量测光谱数据。

5.根据权利要求3所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,收集所述晶圆所有膜层的量测光谱数据。

6.根据权利要求5所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,对所述晶圆所有膜层的量测光谱数据进行拟合。

7.根据权利要求1所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,所述量测光谱数据包括膜厚和光学常数。

8.根据权利要求7所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,所述光学常数包括折射率和消光系数。

9.根据权利要求1所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,其特征在于,所述谐振子为空白自由谐振子。

10.一种椭偏仪光谱浮动模型,其特征在于,采用如权利要求1~9中任一项所述的椭偏仪光谱浮动模型的建立方法建立而成。

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