[发明专利]椭偏仪光谱浮动模型及建立方法在审

专利信息
申请号: 202111658726.0 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN114324184A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 陈旺;薛英武;劳开满 申请(专利权)人: 广州粤芯半导体技术有限公司
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21;G06F30/20
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 钟晶
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 椭偏仪 光谱 浮动 模型 建立 方法
【说明书】:

发明提供了一种椭偏仪光谱浮动模型及建立方法,所述方法包括:建立量测程式,对晶圆进行一次量测,并收集所述晶圆膜层的量测光谱数据;使用OLSA软件,对所述量测光谱数据进行拟合;通过编辑所述晶圆对应膜层的射散模型,增加一个谐振子,并将所述谐振子的初始值改为0;在所述量测程式输出项里面选择所述谐振子。本发明通过添加一个谐振子建立椭偏仪光谱浮动模型,与现有技术相比,采用该模型能够获得比较精确的量测结果,从而明确不同晶圆的同一膜层之间的差异、以及同一晶圆内不同位置处的同一膜层之间的差异,从而准确反应出膜层制作过程的均匀性。

技术领域

本发明涉及半导体技术量测领域,特别涉及一种椭偏仪光谱浮动模型及建立方法。

背景技术

椭偏法是基于测量偏振光的相位和振幅变化的技术,具有非接触性、测量精度高和非破坏性的特点,能同时测量薄膜厚度和光学常数,还可测量多层薄膜,适合测量的膜厚范围比较广。

图1为一椭偏仪测量的基本流程图,首先进行Measurement(量测),接着建立光谱模型(Model),之后进行数据分析拟合(Fit),最后得到量测结果(Results)。通过椭偏仪一次量测就可以分析得到光学常数、膜层厚度以及其他感兴趣的参数值。从图1中我们也可以看出,量测结果的准确性与否,关键在于光谱模型的建立以及数据分析拟合。在光谱中,我们通常使用厚度以及光学常数(折射率和消光系数)来描述每一层材料(包括衬底),对未知的参数先做一个初始假定,而这些光学常数是由若干个谐振子组成,通常的数据分析拟合和量测过程就是浮动这些谐振子的过程。

传统的浮动谐振子的方法有两种:一种是HO(Harmonic Oscillator,谐振子)模型,也就是让这些谐振子自由浮动;另一种是BEMA(Bruggeman Effective MediumApproximation,布鲁格曼介电常数近似理论)模型,也就是让这些谐振子在一定的范围内浮动。

在实际操作中,我们对一片晶圆(wafer)上一个或者若干个点进行光谱拟合,分别得到这几个点的光学常数,分别把这几个点记为M1、M2、……。HO模型就是在其中一个M上直接浮动,这种浮动方式会由于异常浮动导致量测结果有偏移。BEMA模型就是将其中的几个M合并在一起,从而得到浮动的上下限,这种范围浮动会由于浮动范围设置不合理而“撞边”导致量测结果异常。

发明内容

本发明的目的在于提供一种椭偏仪光谱浮动模型及建立方法,通过添加一个谐振子,能够得到比较精确的测量结果,从而反应出膜层制作过程的均匀性。

为解决上述技术问题,本发明提供一种椭偏仪光谱浮动模型的建立方法,包括:

建立量测程式,对晶圆进行一次量测,并收集所述晶圆膜层的量测光谱数据;

使用OLSA软件,对所述量测光谱数据进行拟合;

通过编辑所述晶圆对应膜层的射散模型,增加一个谐振子,并将所述谐振子的初始值改为0;

在所述量测程式输出项里面选择所述谐振子。

可选的,在对所述晶圆进行量测之前,在所述量测程式中开启收集光谱的功能。

可选的,在对所述晶圆进行量测之前,确定所述晶圆进行量测的准确位置。

可选的,收集所述晶圆多个膜层的量测光谱数据。

可选的,收集所述晶圆所有膜层的量测光谱数据。

可选的,对所述晶圆所有膜层的量测光谱数据进行拟合。

可选的,所述量测光谱数据包括膜厚和光学常数。

可选的,所述光学常数包括折射率和消光系数。

可选的,所述谐振子为空白自由谐振子。

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