[发明专利]一种外延炉氢气吸收系统、方法、电子设备及存储介质有效
申请号: | 202111665014.1 | 申请日: | 2021-12-31 |
公开(公告)号: | CN114318518B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 王鑫;高桑田;钟新华;仇礼钦;盛飞龙;唐卓睿;戴科峰 | 申请(专利权)人: | 季华实验室 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B23/02;C30B25/14;C30B25/16 |
代理公司: | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人: | 陈志超 |
地址: | 528200 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 外延 氢气 吸收 系统 方法 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种外延炉氢气吸收系统,包括传送腔(1)和存片腔(2),所述传送腔(1)与所述存片腔(2)连接,其特征在于,所述外延炉氢气吸收系统还包括:
氢气吸收装置(3),设置在所述传送腔(1)内,用于吸收所述传送腔(1)内的氢气;
氢气浓度检测装置(4),设置在所述传送腔(1)内,用于采集所述传送腔(1)内的氢气浓度信息;
控制器,用于在对所述存片腔(2)进行晶片(6)上料或下料前,获取所述氢气浓度信息,还用于在所述氢气浓度信息大于或等于预设的第一阈值时,控制所述氢气吸收装置(3)吸收所述传送腔(1)内的氢气直至所述氢气浓度信息小于预设的第二阈值,以使排放至空气中的氢气的体积含量低于4%,还用于在所述氢气浓度信息小于所述第二阈值时,对所述存片腔(2)进行晶片(6)上料或下料。
2.根据权利要求1所述的外延炉氢气吸收系统,其特征在于,所述外延炉氢气吸收系统还包括:惰性气体提供装置,所述惰性气体提供装置与所述传送腔(1)连接,所述控制器还用于在所述传送腔(1)内的所述氢气浓度信息大于或等于所述第一阈值时,控制所述惰性气体提供装置向所述传送腔(1)输送惰性气体直至所述氢气浓度信息小于所述第二阈值。
3.根据权利要求1所述的外延炉氢气吸收系统,其特征在于,所述传送腔(1)通过第一插板阀(7)与所述存片腔(2)连接,所述控制器还用于当所述传送腔(1)内的所述氢气浓度信息小于所述第二阈值时,控制所述第一插板阀(7)打开。
4.根据权利要求1所述的外延炉氢气吸收系统,其特征在于,所述外延炉氢气吸收系统还包括反应腔(5),所述反应腔(5)与所述传送腔(1)连接,所述氢气吸收装置(3)设置在所述传送腔(1)内靠近所述存片腔(2)的一侧和/或所述传送腔(1)内靠近所述反应腔(5)的一侧。
5.根据权利要求1所述的外延炉氢气吸收系统,其特征在于,所述传送腔(1)内设有机械手(11),所述控制器还用于在所述氢气浓度信息小于所述第二阈值时,控制所述机械手(11)对所述存片腔(2)进行晶片(6)上料或下料操作。
6.根据权利要求1所述的外延炉氢气吸收系统,其特征在于,所述氢气浓度检测装置(4)设置在所述传送腔(1)内靠近所述存片腔(2)的一侧。
7.一种外延炉氢气吸收方法,其特征在于,应用在外延炉氢气吸收系统中,所述外延炉氢气吸收系统包括传送腔(1)、存片腔(2)、氢气吸收装置(3)和氢气浓度检测装置(4),所述传送腔(1)与所述存片腔(2)连接,所述氢气吸收装置(3)设置在所述传送腔(1)内,所述氢气吸收装置(3)用于吸收所述传送腔(1)内的氢气,所述氢气浓度检测装置(4)设置在所述传送腔(1)内,所述氢气浓度检测装置(4)用于采集所述传送腔(1)内的氢气浓度信息,所述外延炉氢气吸收方法包括以下步骤:
在对所述存片腔(2)进行晶片(6)上料或下料前,通过所述氢气浓度检测装置(4)获取所述氢气浓度信息;
在所述氢气浓度信息大于或等于预设的第一阈值时,控制所述氢气吸收装置(3)吸收所述传送腔(1)内的氢气直至所述氢气浓度信息小于预设的第二阈值,以使排放至空气中的氢气的体积含量低于4%;
在所述氢气浓度信息小于所述第二阈值时,对所述存片腔(2)进行晶片(6)上料或下料。
8.根据权利要求7所述的外延炉氢气吸收方法,其特征在于,所述外延炉氢气吸收系统还包括惰性气体提供装置,所述惰性气体提供装置与所述传送腔(1)连接,所述在所述氢气浓度信息大于或等于预设的第一阈值时,控制所述氢气吸收装置(3)吸收所述传送腔(1)内的氢气直至所述氢气浓度信息小于预设的第二阈值的步骤包括:
当所述氢气浓度信息大于或等于所述预设的第一阈值时,控制所述氢气吸收装置(3)吸收所述传送腔(1)内的氢气和控制所述惰性气体提供装置向所述传送腔(1)输送惰性气体,直至所述氢气浓度信息小于所述预设的第二阈值。
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