[发明专利]一种全波长紫外屏蔽珠光颜料的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111675307.8 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN114437565A 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 卓仲标;唐骏 申请(专利权)人: 浙江凯色丽科技发展有限公司
主分类号: C09C1/00 分类号: C09C1/00;C09C1/40;C09C1/30;C09C3/06
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 黄宗波
地址: 313200 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 波长 紫外 屏蔽 珠光颜料 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种全波长紫外屏蔽珠光颜料的制备方法,涉及珠光颜料技术领域。具体包括以下步骤,S1:取氢氧化钠搅拌溶解于水中,得到氢氧化钠溶液,经过预处理的基材,然后加入反应助剂颗粒,搅拌分散后,升温至50‑65℃,得到反应基液;S2:在反应基液中滴加加入TiCl4水溶液,滴加完成后升温至80℃,保温晶化2h;S3:然后加入ZnCl2溶液,再加入Na2CO3溶液调节pH至中性,反应完成后抽滤,滤饼用去离子水洗涤至滤液中无Cl,滤饼烘干、粉碎,去除反应助剂颗粒后,煅烧。本发明公开了一种全波长紫外屏蔽珠光颜料的制备方法,在反应液中加入了反应助剂颗粒,不仅能够调节反应液的pH值,同时还能够去除反应液中的Cl,避免产生大量含氯废水的问题。

技术领域

本发明涉及珠光颜料技术领域,尤其涉及一种全波长紫外屏蔽珠光颜料的制备方法。

背景技术

近年来,随着臭氧层的逐渐被破坏及紫外线辐射的增加,地面上紫外线强度不断增加,紫外线过量照射会导致人体出现红肿脱皮和老化,严重时会引发皮肤癌,紫外线具有较强的穿透能力,会引起皮肤晒黑、老化和DNA损伤,因此抗紫外线产品的研究逐渐成为一个热门领域。

珠光颜料因具备珍珠般柔和的光泽而得名,其主要制备手段是将单层或多层金属氧化物均匀包覆于基材表面,使得光线能够在其表层与内层进行多重反射与折射,产生干涉现象,而为了增加珠光颜料的抗紫外性能,通常会在基材表面包覆具有抗紫外线性能的金属氧化物,其中二氧化钛是最早也是最常用的包覆层物质。

现有的珠光颜料生产工艺,主要为液相沉积法,即在水溶液状态下,利用金属盐的水解反应,生成相应的金属氧化物或氢氧化物,通过库仑力和范德华力的作用将水解产物吸附于基材的表面,其中的金属盐类主要为氯盐,而氯盐水解后生成的主要副产物为HCl,HCl会降低反应体系的pH值,影响反应的进行,因此在现有技术中通常会通过额外添加碱性物质来中和掉多余的H+,达到稳定pH的效果,但是实际操作过程中碱性物质的滴加速度难以精准控制,且并不能对反应液中的Cl-进行去除,会产生含有大量Cl-的废水。

发明内容

针对上述问题,本发明的目的在于公开一种全波长紫外屏蔽珠光颜料的制备方法,在反应液中加入了反应助剂颗粒,不仅能够调节反应液的pH值,同时还能够去除反应液中的Cl-,避免产生大量含氯废水的问题。

具体的,本发明的一种全波长紫外屏蔽珠光颜料的制备方法,所述制备方法具体包括以下步骤:

A1:取氢氧化钠搅拌溶解于水中,得到氢氧化钠溶液,经过预处理的基材,然后加入反应助剂颗粒,搅拌分散后,升温至50-65℃,得到反应基液;

A2:在反应基液中滴加加入TiCl4水溶液,滴加完成后升温至80-95℃,保温晶化2h;

A3:然后加入ZnCl2溶液,再加入Na2CO3溶液调节pH至中性,反应完成,去除反应助剂颗粒后,抽滤,滤饼用去离子水洗涤至滤液中无Cl-,滤饼烘干、粉碎,煅烧,得到全波长紫外屏蔽珠光颜料。

进一步,S2步骤,TiCl4水溶液的浓度为2.0mol/L,所述TiCl4水溶液的滴加速度为3.0-4.0mL/min。

进一步,所述ZnCl2溶液的浓度为1.0mol/L,所述ZnCl2溶液和TiCl4水溶液的体积比为1:(1-6)。

进一步,所述基材为超细片状云母或片状玻璃鳞片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江凯色丽科技发展有限公司,未经浙江凯色丽科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111675307.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top