[发明专利]一种等离子体清洗系统

说明书

本发明公开了一种等离子体清洗系统，用于清洗待处理产品，包括真空腔室、至少一组等离子体发生器、安装架和脉冲偏压电源，真空腔室具有进气口和出气口，等离子体发生器包括同轴且间隔设置的第一平板和第二平板，第一平板设有若干第一贯穿孔，第二平板设有若干第二贯穿孔，第一平板和第二平板之间具有间隙，第一平板和第二平板位于安装架；脉冲偏压电源的正极与真空腔室电连接形成阳极，脉冲偏压电源的负极与第一平板和第二平板电连接。本发明的等离子体清洗系统，在脉冲电压电场作用下，第一平板和第二平板之间的辉光区交叠，使的大量流动的气体被击穿电离，从而产生辉光等离子体，对待处理产品进行清洗，且清洗效果好。

技术领域

本发明涉及等离子体清洗技术领域，更具体的涉及一种等离子体清洗系统。

背景技术

等离子体技术已经广泛应用于各个领域中，比如在新能源、新材料、生物医疗和航空航天等行业取得了巨大成功。可以缩短研发时间，降低研发成本，对开发新的加工工艺和技术、改进产品质量、提高产量和加工效率，都具有极大的指导意义。

等离子体是由阳离子、中性粒子、自由电子等多种不同性质的粒子所组成的电中性物质，等离子体清洗是利用发生器制造大量等离子体，通过一系列物理化学反应，大量活性粒子与固体表面发生物理化学反应，使污染物脱离表面或者和污染物反应生成易挥发性物质，再由真空泵吸走。

在真空镀膜领域，等离子体清洗是不可缺少工序。在电磁场的交互作用下使得气体放电，粒子碰撞以及表面电离，产生大量的离子并被引出成束，用于产品清洁或者活化反应。涂层前或者过程中等离子体发生器的应用，可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。真空镀膜机镀膜常见的三种离子源为阳极层离子源、考夫曼离子源和霍尔离子源，主要是用于在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。

对于真空镀膜领域来说，以上常见的三种离子源产生离子轰击的正向能量是一定的，但对于异型多孔治具、长深刀槽刀具或者其他相似产品而言，会发生不均匀的刻蚀，深槽内的脏污不能被清洗干净，最终产品的均一性和性能会受到影响。

因此，有必要提供一种等离子体清洗系统以解决上述现有技术的不足。

发明内容

为了克服现有技术缺陷，本发明提供了一种等离子体清洗系统，能够对待处理产品进行深度清洗，提高清洁效果。

为实现上述目的，一方面，本发明提供一种等离子体清洗系统，用于清洗待处理产品，包括：

真空腔室，具有进气口和出气口；

至少一组等离子体发生器，所述等离子体发生器包括同轴且间隔设置的第一平板和第二平板，所述第一平板设有若干第一贯穿孔，所述第二平板设有若干第二贯穿孔，第一平板和第二平板之间具有间隙；

安装架，所述第一平板和所述第二平板位于所述安装架；

脉冲偏压电源，所述脉冲偏压电源的正极与所述真空腔室电连接形成阳极，所述脉冲偏压电源的负极与所述第一平板和所述第二平板电连接。

与现有技术相比，本发明的等离子体清洗系统，在使用时，工作气体经进气口进入至真空腔室内，由于所述脉冲偏压电源的正极与所述真空腔室电连接，所述脉冲偏压电源的负极与第一平板和第二平板电连接，在高频高压电场作用下，等离子体发生器与真空腔室之间流动的气体被击穿，产生部分等离子体；且所述第一平板设有若干第一贯穿孔，所述第二平板设有若干第二贯穿孔，第一平板和第二平板之间具有间隙，在脉冲电压电场作用下，第一平板和第二平板之间的辉光区交叠，使的大量流动的气体被击穿电离，从而产生辉光等离子体，对待处理产品进行清洗，且清洗效果好。

较佳地，等离子体清洗系统还包括转动装置，所述转动装置可带动所述第一平板和所述第二平板同步转动。

较佳地，所述转动装置包括驱动电机和连接所述驱动电机的转盘，所述安装架与所述转盘连接。