[实用新型]晶圆防刮擦治具有效

专利信息
申请号: 202120083964.2 申请日: 2021-01-13
公开(公告)号: CN214624994U 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 张军伟;孙帅杰 申请(专利权)人: 苏州恩硕无尘科技有限公司
主分类号: H01L21/673 分类号: H01L21/673
代理公司: 南昌逸辰知识产权代理事务所(普通合伙) 36145 代理人: 刘晓敏
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶圆防刮擦治具
【说明书】:

实用新型公开了晶圆防刮擦治具,包括槽位侧板,所述槽位侧板的一端固定连接有后挡板,所述槽位侧板远离后挡板的一侧固定连接有前挡板,所述槽位侧板的一端开设有卡槽,所述卡槽的形状为三角形,且所述卡槽的形状为若干;本实用新型在需要从Cassete中拿取晶圆之前,把防刮伤治具放置在Cassetehe上面,治具前挡板高度降低,避免操作员工操作时手高度过高造成疲劳作业,治具左右侧板带有槽位和Cassete侧面槽位一一对照,上下槽口都有斜面,防止拿取时因槽口错位导致碰撞,治具四角有定位块,满足所有8寸Cassete尺寸使用,本产品结构简单,安装方便,实用性能强,在不改变现有设备和现有Cassete盒的情况下完美解决了在晶圆拿取时底部刮伤旁边晶圆的问题。

技术领域

本实用新型涉及治具设备技术领域,具体为晶圆防刮擦治具。

背景技术

晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。目前国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主。

晶圆的主要加工方式为片加工和批加工,即同时加工1片或多片晶圆。随着半导体特征尺寸越来越小,加工及测量设备越来越先进,使得晶圆加工出现了新的数据特点。同时,特征尺寸的减小,使得晶圆加工时,空气中的颗粒数对晶圆加工后质量及可靠性的影响增大,而随着洁净的提高,颗粒数也出现了新的数据特点。

现有Cassete盒两边槽位长度不足,造成拿取晶圆时刮伤旁边晶圆,增加槽位高度又会造成现有设备无法使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供晶圆防刮擦治具,以解决上述背景技术中提出的拿取晶圆较为麻烦的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型提供如下技术方案:晶圆防刮擦治具,包括槽位侧板,所述槽位侧板的一端固定连接有后挡板,所述槽位侧板远离后挡板的一侧固定连接有前挡板,所述槽位侧板的一端开设有卡槽,所述卡槽的形状为三角形,且所述卡槽的形状为若干。

优选的,所述后挡板的一端开设有槽孔B,且所述槽孔B的形状与槽孔A的形状相同,治具前后两侧不锈钢板中间开设槽孔A和槽孔B,切除中空,减轻治具整体重量,

优选的,所述前挡板的表面开设有槽孔A,所述槽孔A的数量为多个,治具前后两侧不锈钢板中间开设槽孔A和槽孔B,切除中空,减轻治具整体重量,

优选的,所述槽位侧板的一端固定连接有把手,治具两侧制作2个把手,方便使用治具时拿取放置。

优选的,所述槽位侧板与后挡板和前挡板之间固定连接有定位块,且所述定位块的形状为L型,治具四角有定位块,满足所有8寸Cassete尺寸使用。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1.本实用新型,通过用不锈钢板制作治具框架,用PP板在加工中心加工带槽位的平板制作防刮伤治具槽位侧板,下面四角做四个凸起小平板用来放置在Cassete盒上面时固定治具,防止治具歪斜,治具前后两侧不锈钢板中间开设槽孔A和槽孔B,切除中空,减轻治具整体重量,治具两侧带槽位的槽位侧板,上下两侧制作轻微斜角扩大槽位宽度,防止在用吸笔拿取晶圆时或者在插入晶圆时,晶圆撞到治具槽位侧板边上,治具两侧制作2个把手,方便使用治具时拿取放置,在需要从Cassete中拿取晶圆之前,把防刮伤治具放置在Cassetehe上面,治具前挡板高度降低,避免操作员工操作时手高度过高造成疲劳作业,治具左右侧板带有槽位和Cassete侧面槽位一一对照,上下槽口都有斜面,防止拿取时因槽口错位导致碰撞,治具四角有定位块,满足所有8寸Cassete尺寸使用,本产品结构简单,安装方便,实用性能强,在不改变现有设备和现有Cassete盒的情况下完美解决了在晶圆拿取时底部刮伤旁边晶圆的问题。

附图说明

图1为本实用新型实施例的俯视结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州恩硕无尘科技有限公司,未经苏州恩硕无尘科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120083964.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top